[实用新型]氧化镓晶片退火处理装置

说明书

本实用新型公开了氧化镓晶片退火处理装置，属于氧化镓晶片退火处理领域。氧化镓晶片退火处理装置，包括底座，限位杆侧壁连接有移动机构，移动机构包括驱动电机，驱动电机固定连接在限位杆侧壁，驱动电机输出端连接有连接杆，连接杆侧壁转动连接有第一转轴，第一转轴侧壁转动连接有连杆，连杆远离第一转轴的一端转动连接有第二转轴，第二转轴外壁转动连接有驱动块，驱动块侧壁连接有支撑圆盘，支撑圆盘底部连接有夹持机构，夹持机构加持端与晶片相配合；本实用新型通过夹持机构和移动机构相配，合实现夹取释放功能，可使夹持机构在夹取高度和夹取位置可进行调节，提高移动效率，可根据不同环境进行移动设定，减少移动时间，提高品控。

技术领域

本实用新型涉及氧化镓晶片退火处理领域，尤其涉及氧化镓晶片退火处理装置。

背景技术

氧化镓是一种无机化合物，化学式为Ga2O3，别名三氧化二镓，是一种宽禁带半导体，Eg＝4.9eV，其导电性能和发光特性长期以来一直引起人们的注意。Ga2O3是一种透明的氧化物半导体材料，在光电子器件方面有广阔的应用前景，被用作于Ga基半导体材料的绝缘层，以及紫外线滤光片，它还可以用作O2化学探测器。

在氧化镓晶片猝火加热后的要第一时间进行退火处理，间隔过程过长会导致品控下降，氧化镓晶片通常在淬火后需要转移至退火平台进行退火工艺处理，但是现有的退火处理装置结构简单，功能单一，不能及时进行转移处理，因此需要氧化镓晶片退火处理装置。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决氧化镓晶片高效的移动问题，而提出的氧化镓晶片退火处理装置。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种氧化镓晶片退火处理装置，包括底座，所述底座顶部固定连接有立杆，所述立杆侧壁连接有横杆，所述横杆底部连接有固定圆盘，所述固定圆盘侧壁固定连接有限位杆，所述限位杆侧壁连接有移动机构，所述移动机构包括驱动电机，所述驱动电机固定连接在限位杆侧壁，所述驱动电机输出端连接有连接杆，所述连接杆侧壁转动连接有第一转轴，所述第一转轴侧壁转动连接有连杆，所述连杆远离第一转轴的一端转动连接有第二转轴，所述第二转轴外壁转动连接有驱动块，所述驱动块侧壁连接有支撑圆盘，所述支撑圆盘底部连接有夹持机构，所述夹持机构加持端与晶片相配合。

优选的，所述连杆对称设置有两组，两组所述连杆结构相同，两组所述连杆两端分别与第一转轴和第二转轴转动相连。

优选的，所述移动机构圆周阵列设置有三组，三组所述移动机构结构相同，三组所述移动机构所含驱动块均与支撑圆盘固定相连。

优选的，所述夹持机构包括夹持电机，所述夹持电机固定连接在支撑圆盘顶部，所述支撑圆盘底部部转动连接有丝杆，所述夹持电机输出端与丝杆相连，所述丝杆上螺纹连接有滑架，所述滑架外壁转动连接有驱动杆，所述驱动杆远离滑架的一端转动连接有滑块，所述丝杆底部转动连接有滑动盘，所述支撑圆盘底部固定连接有滑杆，所述滑杆和滑架滑动相连，所述滑动盘上开设有滑槽，所述滑块和滑槽相配合，所述滑块底部固定连接有连接架，所述连接架底部连接有夹块。

优选的，所述驱动杆、滑块、连接架和夹块分别设置有四组，四组所述驱动杆均与滑架转动相连。

与现有技术相比，本实用新型提供了氧化镓晶片退火处理装置，具备以下有益效果：

1、该氧化镓晶片退火处理装置，通过夹持电机和夹块相配合，使夹持机构实现对氧化镓晶片夹取和释放的功能，使氧化镓晶片在移动过程中更加稳定。

2、该氧化镓晶片退火处理装置，通过三组移动机构相配合，使夹持机构在夹取高度可以调节，在夹取位置可以调节，在夹取氧化镓晶片后可以移动至指定退火位置，在退货完成后夹取氧化镓晶片至放置区域，提高移动效率，可根据不同环境进行移动，提高适应性，减少移动时间，提高品控。