[实用新型]一种用于晶体生长的冷却装置有效
| 申请号： | 202120502116.0 | 申请日： | 2021-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN214458449U | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | 张虎;张开端;史建伟;阴法波;张维刚;马振华 | 申请（专利权）人： | 山东天岳先进科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B29/36 | 分类号： | C30B29/36;C30B23/00 |
| 代理公司： | 北京君慧知识产权代理事务所(普通合伙) 11716 | 代理人： | 张伟朴 |
| 地址： | 250118 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 晶体生长 冷却 装置 | ||
1.一种用于晶体生长的冷却装置，其特征在于，所述装置包括：
第一石英管，所述第一石英管内部形成用于晶体生长的腔室；
第二石英管，所述第二石英管套接在所述第一石英管的外侧，所述第二石英管由内向外依次包括石英管内层、夹层和石英管外层；
喷液板，所述喷液板设置在所述夹层内，所述石英管外层和喷液板之间设置有进液口，所述喷液板上开设有多个第一喷液口；所述石英管内层开设有与第一喷液口对应的多个第二喷液口；所述喷液板能够转动，使得第一喷液口和第二喷液口错开或至少部分重合。
2.根据权利要求1所述的用于晶体生长的冷却装置，其特征在于，所述第二喷液口处设置有细网，所述细网的孔径不大于2mm。
3.根据权利要求1所述的用于晶体生长的冷却装置，其特征在于，所述喷液板为管状结构，所述管状结构与石英管内层相配合。
4.根据权利要求3所述的用于晶体生长的冷却装置，其特征在于，所述第一喷液口在喷液板上以所述第二石英管的轴向为中心对称设置。
5.根据权利要求1所述的用于晶体生长的冷却装置，其特征在于，所述多个第一喷液口中相邻第一喷液口之间的间距相等；和/或
第一喷液口或第二喷液口的口径不大于2cm。
6.根据权利要求1所述的用于晶体生长的冷却装置，其特征在于，所述多个第二喷液口的开口面积为所述石英管内层的内壁表面积的20～50％。
7.根据权利要求1所述的用于晶体生长的冷却装置，其特征在于，所述第一喷液口和第二喷液口均为直径相同的圆柱状。
8.根据权利要求1所述的用于晶体生长的冷却装置，其特征在于，所述第一喷液口和第二喷液口均为圆台状；所述圆台状第一喷液口靠近外端的口径大于靠近内端的口径，所述圆台状第二喷液口靠近外端的口径大于靠近内端的口径；
所述圆台状第一喷液口靠近内端的口径等于所述圆台状第二喷液口靠近外端的口径。
9.根据权利要求1所述的用于晶体生长的冷却装置，其特征在于，所述第一石英管和第二石英管之间设置有出液口。
10.根据权利要求1所述的用于晶体生长的冷却装置，其特征在于，所述第一石英管连接第一旋转装置，所述旋转装置用于控制第一石英管的转动；和/或
所述喷液板连接第二旋转装置，所述旋转装置用于控制喷液板的转动。
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