[实用新型]一种反应釜的温控系统及反应系统

权利要求书

1.一种反应釜的温控系统，其特征在于，包括设置于所述反应釜顶部的温度检测组件以及远程监控装置，所述温度检测组件包括温度传感器和通讯装置，所述温度传感器能够通过通讯装置与所述远程监控装置通讯连接；

所述温度传感器包括护管、设置于护管内的热电偶、设置于护管外的环形定位凸起、与所述护管螺纹连接的螺母、设置于所述护管端部的电器盒，所述电器盒内设置有与所述热电偶电连接的端子板；

所述温控系统还包括散热组件，所述散热组件包括半导体制冷片和降温装置，所述半导体制冷片的冷端与所述螺母的外端面贴合，所述降温装置用于对所述半导体的热端降温。

2.根据权利要求1所述的反应釜的温控系统，其特征在于，所述降温装置包括降温块、水泵和水箱，所述降温块内设置有降温水道，所述降温块与所述半导体的热端贴合，所述降温水道的进水口和出水口分别通过管路与所述水箱连通，从而形成循环水路，所述水泵设置于所述循环水路上。

3.根据权利要求2所述的反应釜的温控系统，其特征在于，所述降温水道呈迂回结构。

4.根据权利要求1所述的反应釜的温控系统，其特征在于，所述反应釜包括外壳本体，所述外壳本体的顶部为球形结构，所述球形结构的顶部设置有开口，所述开口处安装平板结构，所述温度传感器安装于所述平板结构上。

5.根据权利要求4所述的反应釜的温控系统，其特征在于，所述平板结构与所述外壳本体为可拆卸连接。

6.根据权利要求5所述的反应釜的温控系统，其特征在于，所述平板结构的外边沿设置有插接部，用于与所述反应釜插接。

7.根据权利要求6所述的反应釜的温控系统，其特征在于，所述插接部包括由所述插接部的边沿部下侧面向下延伸形成的至少两个第一筒状结构。

8.一种反应系统，其特征在于，包括反应釜和如权利要求4至7任一项所述的反应釜的温控系统。

9.根据权利要求8所述的反应系统，其特征在于，所述反应釜的顶部设置有第一安装结构，用于安装所述降温装置的水泵和水箱。

10.根据权利要求8所述的反应系统，其特征在于，所述反应釜的顶部开口外围设置有第二安装结构，用于与所述平板结构上的插接部配合，所述第二安装结构包括水平延伸的环形板和由所述环形板的上侧面向上延伸形成的至少两个第二筒状结构，所述至少两个第二筒状结构的轴线与所述环形板的轴线重合。