[实用新型]一种新型女儿墙结构有效

专利信息
申请号: 202120528643.9 申请日: 2021-03-12
公开(公告)号: CN214364503U 公开(公告)日: 2021-10-08
发明(设计)人: 高超;邹宏增;梁辉;李明;郑志刚;岳汉;佘一杰;龚赞;熊爱国;薛鸣华;韦武访 申请(专利权)人: 中建三局工程设计有限公司;中建三局第三建设工程有限责任公司
主分类号: E04D13/14 分类号: E04D13/14;A01G9/00
代理公司: 武汉智嘉联合知识产权代理事务所(普通合伙) 42231 代理人: 易贤卫
地址: 430000 湖北省武汉市洪山区关*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 女儿墙 结构
【说明书】:

实用新型涉及一种新型女儿墙结构,其包括侧墙和屋面,所述侧墙固定建造在所述屋面的底部四周,所述新型女儿墙结构还包括种植沟和天沟暗沟,所述种植沟和天沟暗沟均沿着所述屋面的周边固定设置在所述屋面顶部,且所述种植沟位于所述天沟暗沟的顶部,所述天沟暗沟的底部与所述屋面的顶部空间连通;所述种植沟内填充有土层,可在所述种植沟内种植花草。本实用新型提供的一种新型女儿墙结构中,所述种植沟内填充有土层,可在所述种植沟内种植花草,以增大屋顶的绿化面积,有效利用了女儿墙空间。

技术领域

本实用新型涉及建筑结构技术领域,尤其涉及一种新型女儿墙结构。

背景技术

女儿墙是建筑物屋顶四周围的矮墙,主要作用除维护安全外,亦会在底处施作防水压砖收头,以避免防水层渗水、或是屋顶雨水漫流。上人屋顶的女儿墙的作用是保护人员的安全,并对建筑立面起装饰作用。城市屋顶绿化面积小,通常会选择在屋面建造屋顶花园,却很少利用女儿墙空间。

实用新型内容

有鉴于此,有必要提供一种新型女儿墙结构,用以解决现有的城市屋顶绿化时,没有利用女儿墙空间,造成资源浪费的问题。

本实用新型提供一种新型女儿墙结构,包括侧墙和屋面,所述侧墙固定建造在所述屋面的底部四周,所述新型女儿墙结构还包括种植沟和天沟暗沟,所述种植沟和天沟暗沟均沿着所述屋面的周边固定设置在所述屋面顶部,且所述种植沟位于所述天沟暗沟的顶部,所述天沟暗沟的底部与所述屋面的顶部空间连通。

进一步的,所述种植沟在竖直平面上的截面为“U”形,所述天沟暗沟在竖直平面上的截面为“口”字形。

进一步的,所述天沟暗沟靠近所述屋面的侧壁上设有开口,所述开口的最低位置不高于所述屋面。

进一步的,所述开口处固定安装有格珊。

进一步的,所述种植沟的侧壁固定安装有养护水管和泄水管,所述养护水管位于所述泄水管的顶部;所述养护水管与外部的供水管路连通,用于向所述种植沟注水,所述泄水管用于排水。

进一步的,所述泄水管的一端与所述种植沟内部连通,另一端与所述屋面的顶部空间或所述天沟暗沟连通。

进一步的,所述天沟暗沟的底部还连接有排水管,用于将所述天沟暗沟内积水排出至地面。

进一步的,所述天沟暗沟靠近所述排水管的一端高度低于另一端高度。

进一步的,所述天沟暗沟的底部不高于所述屋面。

进一步的,所述新型女儿墙结构由混凝土浇筑而成。

本实用新型提供的一种新型女儿墙结构中,所述种植沟内填充有土层,可在所述种植沟内种植花草,以增大屋顶的绿化面积,有效利用了女儿墙空间。

附图说明

图1为本实用新型提供的一种新型女儿墙结构的示意图。

具体实施方式

下面结合附图来具体描述本实用新型的优选实施例,其中,附图构成本申请一部分,并与本实用新型的实施例一起用于阐释本实用新型的原理,并非用于限定本实用新型的范围。

实施例一

本实用新型提供了一种新型女儿墙结构,其结构如图1所示,所述新型女儿墙结构包括侧墙1和屋面2,所述侧墙1固定建造在所述屋面2的底部四周,所述新型女儿墙结构还包括种植沟3和天沟暗沟4,所述种植沟3和天沟暗沟4均沿着所述屋面2的周边固定设置在所述屋面2顶部,且所述种植沟3位于所述天沟暗沟4的顶部,所述天沟暗沟4的底部与所述屋面2的顶部空间连通;所述种植沟3内填充有土层,可在所述种植沟3内种植花草,以增大屋顶的绿化面积,有效利用了女儿墙空间。

作为优选的实施例,所述种植沟3在竖直平面上的截面为“U”形,方便种植花草,所述天沟暗沟4在竖直平面上的截面为“口”字形。

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