[实用新型]一种用于托卡马克装置磁测量的金属霍尔探测器有效
申请号: | 202120548768.8 | 申请日: | 2021-03-17 |
公开(公告)号: | CN214954033U | 公开(公告)日: | 2021-11-30 |
发明(设计)人: | 王傲;季小全;孙腾飞;梁绍勇;张均钊;崔步天 | 申请(专利权)人: | 核工业西南物理研究院 |
主分类号: | G01R33/07 | 分类号: | G01R33/07 |
代理公司: | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人: | 伍旭伟 |
地址: | 610000 四川省*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 马克 装置 测量 金属 霍尔 探测器 | ||
1.一种用于托卡马克装置磁测量的金属霍尔探测器,包括基底(1),其特征在于,所述基底(1)表层设有铜引线层(2)和金属敏感层(3);
所述铜引线层(2)和基底(1)上均带有多个铜引线连接孔,所述金属敏感层(3)由金属沉积在基底(1)上形成,所述金属敏感层(3)连接铜引线层(2)用于测量磁场。
2.根据权利要求1所述的一种用于托卡马克装置磁测量的金属霍尔探测器,其特征在于,所述金属敏感层(3)采用薄膜沉积金属铋,在基底(1)上形成纳米级别且均匀致密的金属铋薄膜。
3.根据权利要求1所述的一种用于托卡马克装置磁测量的金属霍尔探测器,其特征在于,采用金属敏感层工装(5)固定于基底(1)表层,采用磁控溅射仪将金属沉积在基底(1)上。
4.根据权利要求1所述的一种用于托卡马克装置磁测量的金属霍尔探测器,其特征在于,还包括二氧化硅涂层(4),所述二氧化硅涂层(4)用于将金属敏感层(3)表面封装。
5.根据权利要求1所述的一种用于托卡马克装置磁测量的金属霍尔探测器,其特征在于,所述基底(1)采用氧化铝陶瓷片。
6.根据权利要求1所述的一种用于托卡马克装置磁测量的金属霍尔探测器,其特征在于,所述基底(1)表层抛光,抛光度达到8nm以下。
7.根据权利要求1所述的一种用于托卡马克装置磁测量的金属霍尔探测器,其特征在于,采用磁控溅射仪镀膜形成铜引线层(2)。
8.根据权利要求7所述的一种用于托卡马克装置磁测量的金属霍尔探测器,其特征在于,还包括铜引线层工装(6),所述铜引线层工装(6)固定于基底(1)表层,所述铜引线层(2)由磁控溅射仪按照铜引线层工装(6)沉积金属铜制成。
9.根据权利要求1所述的一种用于托卡马克装置磁测量的金属霍尔探测器,其特征在于,所述金属敏感层(3)由金属沉积形成中心对称的十字结构。
10.根据权利要求1所述的一种用于托卡马克装置磁测量的金属霍尔探测器,其特征在于,所述基底(1)上还带有多个安装孔。
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