[实用新型]一种阻隔式量子点薄膜

权利要求书

1.一种阻隔式量子点薄膜，其结构包括量子点薄膜基材层（101），其特征在于：所述量子点薄膜基材层（101）的上表面和下表面分别从内向外依次分布有水氧阻隔层（2）、光线扩散层（1），所述水氧阻隔层（2）的厚度小于1um，所述光线扩散层（1）的厚度在15um-20um之间；

所述量子点薄膜基材层（101）和所述水氧阻隔层（2）之间设有若干光颗粒（3），若干所述光颗粒（3）一一均匀凸设在所述量子点薄膜基材层（101）的上下表面。

2.根据权利要求1所述的一种阻隔式量子点薄膜，其特征在于：所述光线扩散层（1）的表面均匀分布有若干凸起（4），所述凸起（4）的内部为真空填充槽（41）。

3.根据权利要求2所述的一种阻隔式量子点薄膜，其特征在于：所述凸起（4）的形状为半球状、锥状和二次曲面状中的一种或多种。

4.根据权利要求1所述的一种阻隔式量子点薄膜，其特征在于：所述水氧阻隔层（2）为二氧化硅或者三氧化二铝的保护膜。

5.根据权利要求1所述的一种阻隔式量子点薄膜，其特征在于：所述光线扩散层（1）为涂布有量子点涂料的亚克力膜。

6.根据权利要求1所述的一种阻隔式量子点薄膜，其特征在于：所述光颗粒（3）为粒径小于50um的玻璃珠。

7.根据权利要求6所述的一种阻隔式量子点薄膜，其特征在于：所述量子点薄膜基材层（101）的上下表面均匀分布有若干内凹孔（5），所述光颗粒（3）均匀涂布在所述内凹孔（5）的内部。

8.根据权利要求7所述的一种阻隔式量子点薄膜，其特征在于：所述内凹孔（5）的孔壁上涂布有PMMA微粒或所述内凹孔（5）的孔壁为经过磨砂处理的磨砂孔壁。