[实用新型]一种节水型二氧化硅抛光液生产用原料清洗设备

权利要求书

1.一种节水型二氧化硅抛光液生产用原料清洗设备，其特征在于，包括清洗箱（1）、盖板（2）、清洗网框（10）、储水箱（22），所述盖板（2）固定安装在清洗箱（1）上端，所述清洗网框（10）固定安装在清洗箱（1）内部，所述储水箱（22）位于清洗箱（1）内部底端，所述清洗箱（1）上端设有进料口（4），所述进料口（4）与清洗网框（10）内部连通，所述清洗网框（10）内部设有搅动机构，所述清洗箱（1）内壁上环设有环形清洗水管（15），所述环形清洗水管（15）内环壁上安装有喷水头（16），所述喷水头（16）设有多组，多组所述喷水头（16）均朝向清洗网框（10）。

2.根据权利要求1所述的一种节水型二氧化硅抛光液生产用原料清洗设备，其特征在于：所述盖板（2）上端设有驱动电机（3），所述搅动机构包括搅拌轴（11）、搅拌叶片（12）和辅助搅拌环（13），所述搅拌轴（11）顶端与驱动电机（3）的输出轴固定连接，所述搅拌叶片（12）固定安装在搅拌轴（11）上，所述搅拌轴（11）底端固定安装有固定盘（23），所述辅助搅拌环（13）通过连接杆与固定盘（23）连接，所述辅助搅拌环（13）侧壁上环设有搅拌爪（24）。

3.根据权利要求1所述的一种节水型二氧化硅抛光液生产用原料清洗设备，其特征在于：所述清洗网框（10）底端设有落料口（17），所述落料口（17）上设有电磁阀（14），所述清洗网框（10）下方设有的过滤网（18）。

4.根据权利要求3所述的一种节水型二氧化硅抛光液生产用原料清洗设备，其特征在于：所述过滤网（18）呈倾斜设置，且过滤网（18）底端设有振动器（19），所述清洗箱（1）一侧壁上开设有出料口（5），所述出料口（5）位于过滤网（18）远离清洗网框（10）的一端。

5.根据权利要求4所述的一种节水型二氧化硅抛光液生产用原料清洗设备，其特征在于：所述过滤网（18）下方设有过滤抽屉（7），所述过滤抽屉（7）呈镂空设置，且过滤抽屉（7）两侧壁上均设有滑块（21），所述清洗箱（1）内部两侧壁上均设有与滑块（21）匹配的滑槽（20），所述过滤抽屉（7）内部填充有活性炭过滤组件（25）。

6.根据权利要求1所述的一种节水型二氧化硅抛光液生产用原料清洗设备，其特征在于：所述储水箱（22）一侧设有进水口（6），且储水箱（22）另一侧连接有输水管（8），所述输水管（8）上设有水泵（9），所述输水管（8）一端与环形清洗水管（15）连接，所述水泵（9）的进水端通过输水管（8）与储水箱（22）内部连通，且水泵（9）的出水端通过输水管（8）与环形清洗水管（15）内部连通。