[实用新型]组合式镀膜系统

说明书

本实用新型公开了组合式镀膜系统，可用于对SHJ太阳能电池的基材进行镀膜，包括：基于HWCVD的第一镀膜腔，所述第一镀膜腔在所述基材的一面镀本征硅基薄膜；基于HWCVD的第二镀膜腔，设置在所述第一镀膜腔的后面，在所述基材的另一面镀本征硅基薄膜；基于PECVD的第三镀膜腔，设置在所述第二镀膜腔的后面，在所述基材的一面镀P型掺杂硅基薄膜以及n型掺杂硅基薄膜中的一种；基于PECVD的第四镀膜腔，设置在所述第三镀膜腔的后面，在所述基材的另一面镀P型掺杂硅基薄膜以及n型掺杂硅基薄膜中的另一种。本实用新型的组合式镀膜系统，能够提高太阳能电池的转换效率。

技术领域

本实用新型涉及太阳能电池板制造技术领域，尤其涉及组合式镀膜系统。

背景技术

在SHJ太阳能电池的本征硅基薄膜及掺杂非晶硅薄膜制作工艺中，已知的做法通常有两种，等离子体增强化学气相沉积法(Plasma enhanced chemical vapordeposition,PECVD)和热丝化学气相沉积法(Hot wire chemical vapor deposition，HWCVD)。

已知的镀膜工艺中，在同一个镀膜系统当中，通常使用相同的镀膜工艺完成SHJ太阳能电池的本征硅基薄膜及掺杂非晶硅薄膜的制作，工艺模式较为固化。然而，近年来，随着对降本增效的要求不断提高，已知的镀膜工艺已经难以满足对太阳能电池的转换效率的要求。

实用新型内容

本实用新型旨在至少一定程度上解决已知技术问题之一。为此，本实用新型提出了一种组合式镀膜系统，能够提高太阳能电池的转换效率。

根据本实用新型一方面的组合式镀膜系统，可用于对SHJ太阳能电池的基材进行镀膜，包括：基于HWCVD的第一镀膜腔，所述第一镀膜腔在所述基材的一面镀本征硅基薄膜；基于HWCVD的第二镀膜腔，设置在所述第一镀膜腔的后面，在所述基材的另一面镀本征硅基薄膜；基于PECVD的第三镀膜腔，设置在所述第二镀膜腔的后面，在所述基材的一面镀P型掺杂硅基薄膜以及n型掺杂硅基薄膜中的一种；基于PECVD的第四镀膜腔，设置在所述第三镀膜腔的后面，在所述基材的另一面镀P型掺杂硅基薄膜以及n型掺杂硅基薄膜中的另一种。

根据本实用新型的组合式镀膜系统，至少具有如下有益效果：由于分别针对基材的本征硅基薄膜和P型掺杂硅基薄膜(n型掺杂硅基薄膜)，选择对其制作更加有利的镀膜方法，因此能够至少一定程度上提高其镀膜效果，从而提高太阳能电池的转换效率。

在一些实施例中，所述组合式镀膜系统设置为同时对两块并排的基材进行镀膜。

在一些实施例中，所述第一镀膜腔和所述第二镀膜腔当中，其中一个镀膜腔包括两个第一热丝部，两块所述基材分别从两个所述第一热丝部之间通过，另外一个镀膜腔包括一个第二热丝部，两块所述基材分别从所述第二热丝部的两侧通过。

在一些实施例中，所述第一镀膜腔包括两个第一热丝部，两块所述基材分别从两个所述第一热丝部之间通过；所述第二镀膜腔包括一个第二热丝部，两块所述基材分别从所述第二热丝部的两侧通过。

在一些实施例中，所述第三镀膜腔和所述第四镀膜腔当中，其中一个镀膜腔包括两个第一电极部，两块所述基材分别从两个所述第一电极部之间通过，另外一个镀膜腔包括一个第二电极部，两块所述基材分别从所述第二电极部的两侧通过。

在一些实施例中，所述第三镀膜腔包括两个第一电极部，两块所述基材分别从两个所述第一电极部之间通过；所述第四镀膜腔包括一个第二电极部，两块所述基材分别从所述第二电极部的两侧通过。

在一些实施例中，所述第一镀膜腔的前面设置有第一预热腔。

在一些实施例中，所述第一预热腔的前面设置有第二预热腔。

在一些实施例中，所述第二预热腔的前面设置有上料腔。

在一些实施例中，所述第四镀膜腔的后面设置有下料腔。