[实用新型]一种盘中心添加抛光液、防导管打结的抛光装置有效
申请号: | 202120565204.5 | 申请日: | 2021-03-19 |
公开(公告)号: | CN215092642U | 公开(公告)日: | 2021-12-10 |
发明(设计)人: | 叶青;王敏;郑文瑞;林菊芳;曹志伟;李雄;陈秋华;陈伟 | 申请(专利权)人: | 福建福晶科技股份有限公司 |
主分类号: | B24B13/00 | 分类号: | B24B13/00;B24B57/02;B24B55/00 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 中心 添加 抛光 导管 打结 装置 | ||
本实用新型公开了一种盘中心添加抛光液、防导管打结的抛光装置,包括平面抛光盘、凹槽部和自动加液部,所述平面抛光盘,中心有四个孔,盘底部一端的孔,设有宝塔接头,用于连接硅胶管,所述凹槽部,包括凹槽环、硅胶导管和连接杆,凹槽环设有四个孔,孔的低端设有宝塔接头,该宝塔接头通过硅胶导管与平面抛光盘的宝塔接头相连接,凹槽环通过连接杆与平面抛光盘固定,所述自动加液系统包括蠕动泵和硅胶导管,硅胶导管悬放于凹槽环上且不固定,避免硅胶导管跟随盘转动而打结。本实用新型使抛光液能充分分布于平面抛光盘中心区域,光学元件在平面抛光盘上能得到均匀的抛光。
技术领域
本实用新型涉及抛光装置,特别涉及一种盘中心添加抛光液、防导管打结的抛光装置。
背景技术
在光学元件平面加工中,光学元件一般多片粘贴于样板上,形成较大加工截面,在平面抛光盘上抛光,并且同时在平面抛光盘边缘加入抛光液。该过程中,由于光学元件加工截面大,摆动抛光,且平面抛光盘不断旋而使抛光液做离心运动,导致平面抛光盘中心区域很难加入抛光液,光学元件在平面抛光盘中心区域无法得到均匀抛光,从而出现“干抛”现象。
发明内容
本实用新型提出一种盘中心添加抛光液、防导管打结的抛光装置,抛光液能充分分布于平面抛光盘中心区域,使光学元件在平面抛光盘上得到均匀的抛光。
本实用新型采用以下方案。
一种盘中心添加抛光液、防导管打结的抛光装置,其特征在于包括平面抛光盘、凹槽部和自动加液部,所述平面抛光盘,中心有四个孔,盘底部一端的孔,设有宝塔接头,用于连接硅胶管,所述凹槽部,包括凹槽环、硅胶导管和连接杆,凹槽环设有四个孔,孔的低端设有宝塔接头,该宝塔接头通过硅胶导管与平面抛光盘的宝塔接头相连接,凹槽环通过连接杆与平面抛光盘固定,所述自动加液系统包括蠕动泵和硅胶导管,硅胶导管悬放于凹槽环上且不固定,避免硅胶导管跟随盘转动而打结。
本实用新型从平面抛光盘底部钻孔,向平面抛光盘中心区域导入抛光液,解决了平面抛光过程中,抛光盘中心区域抛光液少而出现的 “干抛”现象。另外,由于光学元件加工过程中,光学元件不断地自转和摆动,平面抛光盘不断地转动,若将硅胶导管固定于光学元件轴上,会导致硅胶导管打结。本实用新型通过设计凹槽环部,解决了抛光液均匀分布于平面抛光盘中心区域的问题。
附图说明
下面结合附图对本实用新型进一步说明:
图1是本实用新型所述产品的盘中心添加抛光液、防导管打结的抛光装置局部示意图
其中:1-凹槽环,2-硅胶管,3-连接杆,4-宝塔接头,5-主轴,6-平面抛光盘,7-宝塔接头,8-硅胶管,9-蠕动泵,10-光学元件样板,11-光学元件轴。
具体实施方式
一种盘中心添加抛光液、防导管打结的抛光装置,包括平面抛光盘、凹槽部和自动加液部。所述平面抛光盘,中心有四个孔;盘底部的一端的孔,设有宝塔接头。所述凹槽部,包括凹槽环、硅胶导管和连接杆;凹槽环设有四个孔,孔的低端设有宝塔接头,该宝塔接头通过硅胶导管与平面抛光盘的宝塔接头相连接;凹槽环通过连接杆与平面抛光盘固定。所述自动加液系统包括蠕动泵和硅胶导管,硅胶导管悬放于凹槽环上且不固定,避免硅胶导管跟随盘转动而打结。
实施例1:
如图1所示,将凹槽环1通过连接杆3与平面抛光盘6固定。使用硅胶导管2分别将平面抛光盘6的宝塔接头4与凹槽环1的宝塔接头7连接。将蠕动泵9上的硅胶导管7放于凹槽环1上方。开动蠕动泵9,抛光液从硅胶导管8导入凹槽环1,再从凹槽环1的孔流入硅胶导管2,再进入平面抛光盘面6。光学元件样板10在平面抛光盘6上随光学元件轴10转动不停自转和摆动进行抛光,充分接触抛光液。
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