[实用新型]一种线接触式甩干机有效
申请号: | 202120566437.7 | 申请日: | 2021-03-19 |
公开(公告)号: | CN214226883U | 公开(公告)日: | 2021-09-17 |
发明(设计)人: | 刘庆辉;王育新;张华 | 申请(专利权)人: | 保定通美晶体制造有限责任公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/687 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 李兴林 |
地址: | 072650 河北省保定市定兴*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 接触 式甩干机 | ||
本实用新型公开了一种线接触式甩干机,包括底座、电机和甩干盘,所述电机安装在所述底座上,所述电机的旋转轴与所述甩干盘的中心连接在一起,所述甩干盘的顶面上设置有晶片固定用的线接触定位组件。本实用新型构思巧妙,布局合理,通过晶片定位方式的改变,使得甩干时晶片边缘表面改善,甩干作业彻底,效果好,残留问题得到有效缓解。
技术领域
本实用新型涉及晶片甩干机领域,尤其涉及一种线接触式甩干机。
背景技术
晶片在镀膜前需要进行清洗,清洗后的晶片表面带有水迹,如果不进行充分的干燥,同样会对晶片的频率造成很大的影响,生产出来的晶片谐振器就会不合格。所以对晶片清洗后的干燥变得非常重要的环节。
现在晶片甩干机多采用的立柱支撑,立柱的顶面直接接触晶片,接触面积大,且时间长容易出现沟槽,造成晶片边缘接触部位甩不干,有残留。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种线接触式甩干机,解决现有技术甩干机多为面定位,晶片甩干时造成晶片边缘接触部位甩不干,有残留的问题。
为解决上述技术问题,本实用新型采用如下技术方案:
本实用新型一种线接触式甩干机,包括底座、电机和甩干盘,所述电机安装在所述底座上,所述电机的旋转轴与所述甩干盘的中心连接在一起,所述甩干盘的顶面上设置有晶片固定用的线接触定位组件。
进一步的,所述线接触定位组件包括侧挡板和支撑柱,所述侧挡板通过侧挡立柱连接在所述甩干盘上,所述支撑柱的连接在所述甩干盘上,且所述支撑柱位于所述侧挡板的内侧;所述支撑柱与晶片接触的顶端设置为锥形。
进一步的,所述线接触定位组件设置有多组且呈圆周均布。
进一步的,所述线接触定位组件设置有三个、四个或六个。
进一步的,所述侧挡板粘结在所述侧挡立柱的内侧面上;所述侧挡立柱和所述支撑柱的底部通过螺钉或胶黏剂连接在所述甩干盘的顶面上。
进一步的,所述甩干盘的底部中心设置有定位凹槽,所述电机的旋转轴顶部嵌入到所述定位凹槽后通过顶部的螺栓贯穿所述甩干盘的中心孔后紧固。
进一步的,所述侧挡立柱、侧挡板和所述支撑柱均采用聚四氟乙烯,所述侧挡板上设置有侧挡支架线,所述侧挡支架线为尼龙线。
与现有技术相比,本实用新型的有益技术效果:
本实用新型一种线接触式甩干机,包括底座、电机和甩干盘,甩干盘的顶面上设置有晶片固定用的线接触定位组件,该线接触定位组件包括侧挡板和支撑柱,通过将支撑柱的顶面设置为锥形,实现晶片与支撑柱的点接触,侧挡板设置为薄板状实现晶片边缘的线接触。本实用新型构思巧妙,布局合理,通过晶片定位方式的改变,使得甩干时晶片边缘表面改善,甩干作业彻底,效果好,残留问题得到有效缓解。
附图说明
下面结合附图说明对本实用新型作进一步说明。
图1为本实用新型线接触式甩干机主视示意图;
图2为本实用新型线接触式甩干机俯视图;
图3为本实用新型侧挡立柱连接示意图;
附图标记说明:1、底座;2、电机;3、甩干盘;4、侧挡立柱;5、侧挡板;6、支撑柱;7、晶片;8、螺钉;9、侧挡支架线。
具体实施方式
如图1-3所示,一种线接触式甩干机,包括底座1、电机2和甩干盘3,所述电机2安装在所述底座1上,所述电机2的旋转轴与所述甩干盘3的中心连接在一起,所述甩干盘3的顶面上设置有晶片7固定用的线接触定位组件。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造