[实用新型]镀膜装置及其进料组件有效

专利信息
申请号: 202120574359.5 申请日: 2021-03-19
公开(公告)号: CN214572216U 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 宗坚;文毅 申请(专利权)人: 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/50
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 骆苏华
地址: 214000 江苏省无锡市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 镀膜 装置 及其 进料 组件
【说明书】:

本实用新型主要提供一种镀膜装置及其进料组件,所述镀膜装置的进料组件包括至少一进料主体,所述进料主体上设置有至少一进料口和一进料引流件,所述进料主体包括一封闭端部和一开口端部,所述进料引流件被设置于所述进料主体上且所述进料引流件的末端位于所述开口端部,以将所述进料主体的所述开口端部区隔为多个进料通道,从而使从所述进料口进入的镀膜原料能够从多个所述进料通道沿着所述镀膜腔体的内侧壁扩散至所述镀膜腔体内。所述镀膜装置的进料组件能够对进入所述镀膜装置的镀膜原料的流向进行控制,从而使所述镀膜装置内部的至少一待镀膜产品的表面能够得到均匀镀膜。

技术领域

本实用新型涉及一种镀膜装置及其进料组件,具体而言,本实用新型涉及一种能够实现均匀进气的镀膜装置及其进料组件。

背景技术

近年来,镀膜技术的快速发展,尤其是气相沉积技术日臻成熟,使利用表面镀膜技术提高电子产品的性能成为一种技术热点。表面镀膜技术可赋予电子产品,诸如高的抗摔次数,优异的防刮耐磨性、良好的散热性、防水性、耐水下通电性以及耐腐性等性能。等离子体化学气相沉积技术是目前常用的镀膜技术,在电场作用下产生等离子体,借助等离子体使含有膜层组成原子的气态物质发生化学反应,在产品表面沉积防护膜层。

镀膜过程中,镀膜原料通过一原料进孔进入所述镀膜装置的内部进而充斥着所述镀膜装置的镀膜腔,从而为位于所述镀膜装置的镀膜腔内的待镀膜产品进行镀膜。但是由于待镀膜产品被放置于镀膜装置的内部,并且位于不同的位置,再加上镀膜原料自身的特性参数原因,往往导致同一镀膜腔内位于不同位置的待镀膜产品的镀膜效果之间有较大的差异。

基于上述情况,现有技术中在镀膜时,往往采用降低同一镀膜腔内的镀膜产品的数量来保证各镀膜产品之间的镀膜效果不会产生较大偏差,或者是通过调整镀膜的膜厚以及镀膜时间等对同一镀膜腔内的待镀膜产品的镀膜效果进行控制,以使同一镀膜腔内的待镀膜产品的镀膜效果之间的差异尽可能缩小。

实用新型内容

本实用新型的一个优势在于提供一种镀膜装置及其进料组件,所述镀膜装置的进料组件能够对进入所述镀膜装置的镀膜原料的流向进行控制,从而使所述镀膜装置内部的至少一待镀膜产品的表面能够得到均匀镀膜。

本实用新型的一个优势在于提供一种镀膜装置及其进料组件,所述镀膜装置的进料组件能够对进入所述镀膜装置的镀膜原料的流向分布进行控制,从而使所述镀膜原料能够根据所述镀膜装置内部的所述待镀膜产品的分布进行分配,从而使所述镀膜装置内的所述待镀膜产品的表面能够得到均匀的镀膜。

本实用新型的一个优势在于提供一种镀膜装置及其进料组件,所述镀膜装置的进料组件能够提高镀膜原料的覆盖范围,从而使所述镀膜装置内的待镀膜产品的放置量能够得到进一步的提高。

本实用新型的一个优势在于提供一种镀膜装置及其进料组件,所述镀膜装置的进料组件结构简单,易于加工和安装,并且能提高对待镀膜产品的镀膜均匀性和镀膜效果。

本实用新型的一个优势在于提供一种镀膜装置及其进料组件,所述镀膜装置的进料组件不占用所述镀膜装置的内部空间,因此能够在提高对所述待镀膜产品表面的镀膜效果的前提下也不会影响所述镀膜装置对所述待镀膜产品的镀膜效率。

为达上述至少一发明优势,本实用新型提供一种镀膜装置,所述镀膜装置包括一进料组件和一镀膜腔体,其中所述进料组件包括至少一进料主体,所述进料主体上设置有至少一进料口和一进料引流件,所述进料主体包括一封闭端部和一开口端部,所述进料引流件被设置于所述进料主体上且所述进料引流件的末端位于所述开口端部,以将所述进料主体的所述开口端部区隔为多个进料通道,从而使从所述进料口进入的镀膜原料能够从多个所述进料通道沿着所述镀膜腔体的内侧壁扩散至所述镀膜腔体内。

在其中一些实施例中,所述镀膜腔体的侧壁具有一原料进口,所述进料组件中的所述进料口被设置为对应于所述镀膜装置的所述原料进口。

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