[实用新型]一种用于聚羧酸减水剂生产反应釜的清洗装置

权利要求书

1.一种用于聚羧酸减水剂生产反应釜的清洗装置，其特征在于，包括清洗组件(1)、升降组件(2)和移动架(3)，所述清洗组件(1)包括若干清洗端(11)、旋转头(12)、第一旋转电机(13)和清洗组件壳体(14)，所述第一旋转电机(13)设置于清洗组件壳体(14)右端外侧，所述旋转头(12)固定于第一旋转电机(13)的输出端，所述旋转头(12)外侧均匀固定有多个清洗端(11)，所述第一旋转电机(13)用于带动旋转头(12)和清洗端(11)旋转；

所述升降组件(2)包括升降杆(21)和升降驱动机构(22)，所述清洗组件壳体(14)水平设置于升降杆(21)底部且左端与升降杆(21)底端连接，所述升降杆(21)设置于升降驱动机构(22)上，所述升降驱动机构(22)设置于移动架(3)顶部，所述升降驱动机构(22)用于带动升降杆(21)和清洗组件(1)上升或下降，所述移动架(3)的底部设置有行走轮(31)。

2.根据权利要求1所述的用于聚羧酸减水剂生产反应釜的清洗装置，其特征在于，所述清洗端(11)包括清洗头(111)、清洗头固定板(112)、液压杆(113)和弹性圆筒(114)，所述液压杆(113)的一端通过弹性圆筒(114)铰接于旋转头(12)的外侧，所述液压杆(113)的另一端球铰接于清洗头固定板(112)内侧，所述清洗头(111)设置于清洗头固定板(112)外侧，所述旋转头(12)的外侧与液压杆(113)铰接处开设有圆槽，所述弹性圆筒(114)设置于圆槽内且包覆设置于液压杆(113)外侧。

3.根据权利要求2所述的用于聚羧酸减水剂生产反应釜的清洗装置，其特征在于，所述清洗头(111)的外表面均匀开设有若干斜槽(1111)。

4.根据权利要求1所述的用于聚羧酸减水剂生产反应釜的清洗装置，其特征在于，所述升降驱动机构(22)包括第二旋转电机(221)、齿轮(222)和滑槽固定架(223)，所述滑槽固定架(223)和第二旋转电机(221)设置于移动架(3)顶部，所述升降杆(21)的两侧竖直开设有滑槽(211)，所述升降杆(21)通过滑槽(211)设置于滑槽固定架(223)上，所述齿轮(222)设置于第二旋转电机(221)的输出端，所述升降杆(21)的左侧由上到下均匀设置有若干凸齿(212)，所述凸齿(212)与齿轮(222)啮合，所述第二旋转电机(221)用于通过带动齿轮(222)转动以带动升降杆(21)上升或下降。

5.根据权利要求1所述的用于聚羧酸减水剂生产反应釜的清洗装置，其特征在于，所述清洗组件壳体(14)的左端与升降杆(21)底端铰接，所述清洗组件壳体(14)的左端设置有平衡杆(141)，还包括液压缸(4)，所液压缸(4)的顶端铰接于升降杆(21)中部，液压缸(4)下端的推杆底端铰接于平衡杆(141)顶部，所述液压缸(4)用于推动推杆以推动清洗组件壳体(14)在竖直平面上转动。