[实用新型]一种应用于脸部美容的等离子体发生装置

权利要求书

1.一种应用于脸部美容的等离子体发生装置，包括按摩头（1）和装置主体（3），其特征在于：所述装置主体（3）的一端安装有连接块（2），所述连接块（2）的一端安装有按摩头（1），所述连接块（2）的内部设置有安装结构（8），所述安装结构（8）包括安装槽（801）、吸附块（802）、伸缩片（803）、限位块（804）、卡块（805）和连接轴（806），所述安装槽（801）安装在连接块（2）的内部，所述安装槽（801）的内部设置有卡块（805），所述卡块（805）的顶端安装有吸附块（802），所述卡块（805）的两侧均设置有伸缩片（803），所述卡块（805）的底端安装有连接轴（806），所述安装槽（801）的内部安装有限位块（804），所述装置主体（3）的内部安装有工作腔（4），所述工作腔（4）的内部安装有线圈（5），所述装置主体（3）的底端安装有接线孔（6），所述装置主体（3）内部的一端设置有降噪结构（7），所述装置主体（3）的一端设置有防护结构（9）。

2.根据权利要求1所述的一种应用于脸部美容的等离子体发生装置，其特征在于：所述降噪结构（7）包括预留腔（701）、降噪板（702）、吸收棉（703）和收音孔（704），所述预留腔（701）安装在装置主体（3）内部的一侧，所述预留腔（701）的内部安装有吸收棉（703），所述吸收棉（703）的内部安装有收音孔（704），所述预留腔（701）的两侧设置有降噪板（702）。

3.根据权利要求2所述的一种应用于脸部美容的等离子体发生装置，其特征在于：所述降噪板（702）关于预留腔（701）的垂直中轴线呈对称分布，所述收音孔（704）在吸收棉（703）的内部呈等间距排列。

4.根据权利要求1所述的一种应用于脸部美容的等离子体发生装置，其特征在于：所述伸缩片（803）关于卡块（805）的垂直中轴线呈对称分布，所述伸缩片（803）与卡块（805）内部之间形成弹性连接。

5.根据权利要求1所述的一种应用于脸部美容的等离子体发生装置，其特征在于：所述限位块（804）关于安装槽（801）的垂直中轴线呈对称分布，所述吸附块（802）在卡块（805）的顶端呈等间距排列。

6.根据权利要求1所述的一种应用于脸部美容的等离子体发生装置，其特征在于：所述防护结构（9）包括第一滑轨（901）、限位板（902）、防护板（903）和第二滑轨（904），所述第一滑轨（901）安装在装置主体（3）的一端，所述第一滑轨（901）的一侧设置有第二滑轨（904），所述第一滑轨（901）和第二滑轨（904）的底端安装有限位板（902），所述限位板（902）内部的一端设置有防护板（903）。