[实用新型]一种高反射装饰膜

说明书

一种高反射装饰膜，包括基材层，还包括由所述基材层的正面依次设置的底涂层、高折树脂涂层，所述底涂层通过涂布工艺涂设于所述基材层正面，所述底涂层厚度为40‑120nm，所述高折树脂涂层厚度为45‑320nm。本实用新型高反射装饰膜是基于基材层，采用涂布工艺将底涂层和高折树脂涂层依次涂设于基材层表面，涂布工艺成本低、效率高，且涂抹均匀，产品良率高，底涂层和高折树脂涂层均采用高折射率材料，提高反射作用。

技术领域

本实用新型具体涉及一种高反射装饰膜。

背景技术

市场上高反射膜一般光学介质都是PET，运用磁控溅射镀膜从而使得反射达到要求。现实中磁控真空镀膜材料有氮化硅、二氧化锆、氧化铌/氧化硅等，镀膜厚度在50-300nm，目前磁控真空镀膜成本高、效率比较低、氧化硅均匀性比较难控制，并且在后端制程常会出现R角破裂。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种高反射装饰膜。

为了解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：一种高反射装饰膜，包括基材层，还包括由所述基材层的正面依次设置的底涂层、高折树脂涂层，所述底涂层通过涂布工艺涂设于所述基材层正面，所述底涂层厚度为40-120nm，所述高折树脂涂层厚度为45-320nm。

在某些实施方式中，所述底涂层为丙烯酸酯、聚氨脂、有机硅的单层或叠层，所述底涂层的折射率为1.35-1.52。

在某些实施方式中，所述基材层为透光率在90%以上的基层，所述基材层的材质为PET、TAC、PC中的其中一种，所述基材层厚度为50μm-188μm。

在某些实施方式中，所述高反射装饰膜还包括涂设于所述高折树脂涂层正面的镀层，所述镀层厚度为2-20nm。

在某些实施方式中，所述镀层为氧化铌层、氧化钛层、氧化锆层、氧化铪层中的一种。

本实用新型的范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中公开的（但不限于）具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案等。

由于上述技术方案运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点：本实用新型高反射装饰膜是基于基材层，采用涂布工艺将底涂层和高折树脂涂层依次涂设于基材层表面，涂布工艺成本低、效率高，且涂抹均匀，产品良率高，底涂层和高折树脂涂层均采用高折射率材料，提高反射作用。

附图说明

图1为本实用新型构层剖面示意图（实施例一）；

图2为本实用新型构层剖面示意图（实施例二）；

其中：1、基材层；2、底涂层；3、高折树脂涂层；4、镀层。

具体实施方式

实施例一：一种高反射装饰膜，包括基材层1，还包括由基材层1的正面依次设置的底涂层2、高折树脂涂层3，底涂层2通过涂布工艺涂设于基材层1正面，底涂层2厚度为40-120nm，高折树脂涂层3厚度为45-320nm。本实用新型高反射装饰膜是基于基材层，采用涂布工艺将底涂层和高折树脂涂层依次涂设于基材层表面，涂布工艺成本低、效率高，且涂抹均匀，产品良率高，底涂层和高折树脂涂层均采用高折射率材料，提高反射作用。

底涂层2为丙烯酸酯、聚氨脂、有机硅的单层或叠层，底涂层2的折射率为1.35-1.52。

高折树脂涂层3覆盖于底涂层2上，高折树脂涂层3为丙烯酸酯层，高折树脂涂层3含有氧化钛改性粒子，氧化钛改性粒子大小为40-80nm，高折树脂涂层3折射率为1.82-1.95，氧化钛改性粒子可提高高折树脂涂层3的反射效果。

且当，颜色众多，适用于多种场合和要求，且不需要额外涂设显色涂层，降低生产成本。