[实用新型]多弧离子镀膜机

权利要求书

1.一种多弧离子镀膜机，其特征在于，包括镀膜室以及电弧蒸发源；

所述镀膜室包括侧壁段，所述侧壁段包括顺次连接而成的多个侧壁，在所述侧壁段中，相邻侧壁中的其中一个所述侧壁上至少设置有一个所述电弧蒸发源，另一个所述侧壁上至少间隔设置有两个所述电弧蒸发源，且相邻所述侧壁上的所述电弧蒸发源在所述侧壁的高度方向上交错设置。

2.根据权利要求1所述的多弧离子镀膜机，其特征在于，所述电弧蒸发源设置于所述镀膜室的侧壁的对半中线上。

3.根据权利要求2所述的多弧离子镀膜机，其特征在于，所述镀膜室呈八棱柱结构，所述镀膜室包括相对设置的两个侧壁段，所述两个侧壁段经由一组彼此面对的两个连接侧壁连接，以形成所述镀膜室的侧部；

在彼此面对的两个连接侧壁中，其中一个所述连接侧壁上设置有门组件，且另一个所述连接侧壁上开设有抽气孔；

除所述门组件所在的所述连接侧壁以及所述抽气孔所在的所述连接侧壁，所述镀膜室的侧部的其余所述侧壁上均设有所述电弧蒸发源。

4.根据权利要求3所述的多弧离子镀膜机，其特征在于，在所述侧壁段中，相邻所述侧壁中的其中一个所述侧壁上设置有一个电弧蒸发源，且另一个所述侧壁上间隔设置有两个电弧蒸发源；且一个所述电弧蒸发源的中心位于两个所述电弧蒸发源之间的中线上。

5.根据权利要求3所述的多弧离子镀膜机，其特征在于，在所述侧壁段中，任意一个所述侧壁上均设置有两个所述电弧蒸发源，且相邻所述侧壁中的其中一个所述侧壁上设置的其中一个所述电弧蒸发源位于另一个所述侧壁上两个所述电弧蒸发源之间的中线上。

6.根据权利要求4或5所述的多弧离子镀膜机，其特征在于，同一侧壁上间隔排布的所述电弧蒸发源之间的间距设置在400-600mm之间。

7.根据权利要求4或5所述的多弧离子镀膜机，其特征在于，所述电弧蒸发源的表面与待镀件的表面之间的距离设置在150-300mm之间。

8.根据权利要求4所述的多弧离子镀膜机，其特征在于，所述电弧蒸发源的有效镀膜区的高度设置大于500mm。

9.根据权利要求5所述的多弧离子镀膜机，其特征在于，所述电弧蒸发源的有效镀膜区的高度设置大于900mm。

10.根据权利要求3所述的多弧离子镀膜机，其特征在于，还包括抽真空组件，所述抽真空组件通过所述抽气孔与所述镀膜室连通，用于对所述镀膜室抽真空。

11.根据权利要求1所述的多弧离子镀膜机，其特征在于，还包括旋转转架，所述旋转转架设置于所述镀膜室的底部，用于装载待镀件。

12.根据权利要求3所述的多弧离子镀膜机，其特征在于，所述门组件包括门以及密封件；

所述门可旋转安装于所述镀膜室的所述侧壁上，所述密封件安装于所述门朝向所述镀膜室内部的侧壁上，所述密封件用于密封所述门与所述镀膜室的侧壁。

13.根据权利要求4或5所述的多弧离子镀膜机，其特征在于，所述电弧蒸发源的靶材直径为160mm。