[实用新型]一种高效率料盘清洁机有效
申请号: | 202120654632.5 | 申请日: | 2021-03-31 |
公开(公告)号: | CN214956768U | 公开(公告)日: | 2021-11-30 |
发明(设计)人: | 刘明群;赵原;涂可嘉;刘鹏飞;解兰翔 | 申请(专利权)人: | 江苏汇成光电有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;B08B15/04 |
代理公司: | 南京苏科专利代理有限责任公司 32102 | 代理人: | 王峰 |
地址: | 225128 江苏省扬州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高效率 清洁 | ||
本实用新型公开了半导体封装领域内的一种高效率料盘清洁机,包括底座板,底座板上分别设置有左右对应的清洁支架和安装支架,所述清洁支架上部可转动地设置有旋转轴,旋转轴与安装支架表面相垂直,旋转轴上套装有料盘,料盘中心开设有可容旋转轴插入的轴孔,所述料盘包括中心筒,中心筒的前后两端均一体设置有盘侧板,两块盘侧板相互平行,所述安装支架上部经调整转轴连接有清洁手臂,所述清洁手臂的前后两侧面均设置有清洁无尘布,清洁手臂伸入料盘的两块盘侧板之间,清洁手臂上的两块清洁无尘布分别与对应盘侧板内侧相接触。本实用新型通过清洁手臂360°无死角清洁料盘内部,清洁效果好,方便快捷,且后续维护成本低。
技术领域
本实用新型属于半导体封装领域,特别涉及一种高效率料盘清洁机。
背景技术
现有技术中,IC芯片是将大量的微电子元器件,如晶体管、电阻、电容等形成的集成电路放在一块塑基上,做成一块芯片,然后封装在一个管壳内,成为具有所需电路功能的微型结构,而今几乎所有看到的芯片,都可以叫做IC芯片。IC芯片通常由单晶硅圆片制成,晶圆经过切割后形成多个小晶粒即IC芯片,通常将多个IC芯片用基板依次间隔固定在料带上,料带产品卷绕收纳在料盘上,料卷带产品使用的存放载体料盘,需重复利用,重复利用前需清洁料盘表面。现有技术通常采用人工手持无尘布擦拭清洁料盘,其不足之处在于:人工清洁的工作量较大;人工清洁的效率较低;清洁不够干净,易造成清洁盲区。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种高效率料盘清洁机,通过清洁手臂360°无死角清洁料盘内部,不仅结构简单,造价低廉,较适合生产现场操作,而且清洁效果好,方便快捷,且后续维护成本低。
本实用新型的目的是这样实现的:一种高效率料盘清洁机,包括底座板,底座板上分别设置有左右对应的清洁支架和安装支架,所述清洁支架上部可转动地设置有旋转轴,旋转轴与安装支架表面相垂直,旋转轴上套装有料盘,料盘中心开设有可容旋转轴插入的轴孔,所述料盘包括中心筒,中心筒的前后两端均一体设置有盘侧板,两块盘侧板相互平行,所述安装支架上部经调整转轴连接有清洁手臂,所述清洁手臂的前后两侧面均设置有清洁无尘布,清洁手臂伸入料盘的两块盘侧板之间,清洁手臂上的两块清洁无尘布分别与对应盘侧板内侧相接触。
本实用新型使用时,先将料盘的轴孔对准旋转轴,使得旋转轴插入料盘轴孔内,再将清洁手臂旋转至清洁料盘的固定角度,确认料盘的两盘侧板内壁与清洁手臂上的两块清洁无尘布分别贴合,然后手动旋转料盘,料盘的两盘侧板内壁在旋转过程中与清洁无尘布摩擦,达到360°清洁的效果。与现有技术相比,本实用新型的有益效果在于:能够深入料盘内部进行清洁,提高清洁效果;装置具有结构简单,占用空间小,制造成本低的优点;操作方便,可实现设备清洁;清洁速度提高;360°清洁无盲区,提高清洁效率。
作为本实用新型的进一步改进,所述轴孔包括开设在前部盘侧板上的通孔一、中心筒的内孔和开设在后部盘侧板上的通孔二,通孔一、内孔和通孔二的内径相等且同轴设置。
作为本实用新型的进一步改进,所述旋转轴的外周沿周向等间隔设置有若干外凸的弧形传动部,料盘的轴孔内壁对应各传动部沿周向等间隔设置有若干弧形传动槽。旋转轴插入轴孔,通过旋转轴上的传动部与传动槽配合来带动料盘转动,料盘转动更方便。
作为本实用新型的进一步改进,所述清洁手臂的截面呈矩形,清洁手臂上沿长度方向间隔开设有若干加固槽,加固槽环绕在清洁手臂外周设置,每个加固槽外周均套设有紧固橡皮筋,紧固橡皮筋压紧两块清洁无尘布并嵌入对应加固槽设置。通过橡皮筋将清洁无尘布勒紧,嵌入加固槽内的橡皮筋不会刮伤料盘。
作为本实用新型的进一步改进,所述安装支架上设置有可压紧清洁手臂的压块。通过压块可以压紧清洁手臂,避免清洁手臂晃动。
附图说明
图1为本实用新型的料盘未安装时的立体结构图。
图2为料盘安装在清洁机上的立体结构图。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造