[实用新型]一种成像装置视场角测量系统

说明书

本申请涉及一种成像装置视场角测量系统，位机、双光楔支撑旋转机构以及依次设置的激光器、双光楔和待测成像装置；所述双光楔安装在所述双光楔支撑旋转机构上，所述待测成像装置和所述双光楔支撑旋转机构连接至所述上位机，所述上位机被配置为控制所述双光楔支撑旋转机构调整所述双光楔的角度，从而调整所述双光楔输出至所述待测成像装置的光线的角度。该系统结构简化、紧凑；测量范围大，仅需调节双光楔组件的旋转角度，即可实现测量范围的调节，无需调节测量系统和待测成像装置之间的距离。

技术领域

本申请涉及视场角测量技术领域，尤其涉及一种成像装置视场角测量系统。

背景技术

目前，通常利用光点目标在成像装置中的直接角位移来测量视场角，视场角代表了成像装置视场的范围。现有技术中需要将待测成像装置放在一维或者二维角度旋转台上，待测成像装置前方放置平行光管用于模拟光点目标作为参考点。具体测量时调节旋转台的位置使平行光管模拟的光电目标成像在待测成像装置的视场的水平边沿和垂直边沿，通过读取旋转台的转动角度范围，完成视场水平方向和垂直方向的视场角测量。

然而，上述现有技术受限于平行光管出曈要大于待测成像装置入曈的原则，可能会出现以下问题：

第一、现有技术针对小口径大视场的摄远型成像装置测量时，会出现边缘靶标像较暗的现象，从而影响读数精度，甚至超出测量范围等问题。

第二、如果待测成像装置是大口径的系统，要求平行光管焦距比较长，如果需要高精度测量也需要焦距较长的平行光管，另外角度旋转台的体积和负载能力需要提高，测量系统的体积、布局和成本会更难控制，不利于在有限空间实施测量。

第三、为适应不同大小的待测成像装置，需要反复调节测量系统和待测成像装置之间的距离，操作步骤复杂。

实用新型内容

为了解决上述背景技术提到的技术问题或者至少部分地解决上述技术问题，本申请提供一种成像装置视场角测量系统，待测成像装置和测量系统之间的距离固定，结构简单紧凑，测量范围较大。

本申请提供了一种成像装置视场角测量系统，包括：上位机、双光楔支撑旋转机构以及依次设置的激光器、双光楔和待测成像装置；所述双光楔安装在所述双光楔支撑旋转机构上，所述待测成像装置和所述双光楔支撑旋转机构连接至所述上位机，所述上位机被配置为控制所述双光楔支撑旋转机构调整所述双光楔的角度，从而调整所述双光楔输出至所述待测成像装置的光线的角度。

优选的，所述双光楔支撑旋转机构包括第一旋转底座及设置在所述第一旋转底座上的第二旋转底座和第三旋转底座，所述第二旋转底座和所述第三旋转底座上均连接有一光楔圈，两个所述光楔圈中均分别固定安装有一光楔，所述第一旋转底座、所述第二旋转底座和所述第三旋转底座均连接至所述上位机。

优选的，所述第一旋转底座包括转盘和基座，所述基座内设有第一电机，所述第一电机的输出轴连接所述转盘，所述转盘内还设有第二电机和第三电机，所述第二电机的输出轴连接所述第二旋转底座，所述第三电机的输出轴连接所述第三旋转底座，所述第一电机、所述第二电机和所述第三电机均连接至所述上位机。

优选的，所述第一电机、所述第二电机和所述第三电机的输出轴上均还设有角编码器，所述角编码器连接至所述上位机。

优选的，所述上位机还设有显示装置，所述上位机还被配置为通过所述显示装置显示所述待测成像装置形成的图像信息。

本申请实施例提供的上述技术方案与现有技术相比具有如下优点：该成像装置视场角测量系统结构简单紧凑，无需转动待测成像装置，无需调节测量系统和待测成像装置之间的距离，通过双光楔支撑旋转机构调整双光楔的角度，就可以实现不同角度动光点目标的模拟，在任何测量角度都可以使光束能量进入到待测成像装置入曈，测量范围大，通过上位机能够判读光点目标在待测成像装置视场中的角度。

附图说明