[实用新型]一种晶片抛光用多层抛光垫有效
申请号: | 202120665040.3 | 申请日: | 2021-03-31 |
公开(公告)号: | CN214559983U | 公开(公告)日: | 2021-11-02 |
发明(设计)人: | 李加海;谭鸿 | 申请(专利权)人: | 安徽禾臣新材料有限公司 |
主分类号: | B24B37/22 | 分类号: | B24B37/22;B24B37/26 |
代理公司: | 北京和联顺知识产权代理有限公司 11621 | 代理人: | 李照 |
地址: | 238200 安徽省马鞍山市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 晶片 抛光 多层 | ||
1.一种晶片抛光用多层抛光垫,包括基础圆板(1)、护圈(2)、吸灰层(3)、抛光层(4)和隔离网(5),其特征在于:所述基础圆板(1)、吸灰层(3)和隔离网(5)均位于护圈(2)的内侧,吸灰层(3)的一面侧壁通过粘合剂复合在基础圆板(1)上,吸灰层(3)的另一面侧壁通过粘合剂连接隔离网(5),隔离网(5)的外表面复合有均匀分布的抛光层(4)。
2.根据权利要求1所述的一种晶片抛光用多层抛光垫,其特征在于:所述吸灰层(3)、抛光层(4)和隔离网(5)均关于基础圆板(1)对称分布。
3.根据权利要求1所述的一种晶片抛光用多层抛光垫,其特征在于:所述隔离网(5)上开设有均匀分布的漏灰孔,隔离网(5)的边缘底边处设有环槽(6),隔离网(5)和环槽(6)均与护圈(2)的内壁接触连接。
4.根据权利要求1所述的一种晶片抛光用多层抛光垫,其特征在于:所述护圈(2)与基础圆板(1)的外边缘固定,护圈(2)的内壁与吸灰层(3)接触。
5.根据权利要求1所述的一种晶片抛光用多层抛光垫,其特征在于:所述吸灰层(3)呈蜂窝状,吸灰层(3)的厚度值大于基础圆板(1)的厚度值。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安徽禾臣新材料有限公司,未经安徽禾臣新材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202120665040.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种外转子电机及电动工具
- 下一篇:一种手腕牵制力度控制器