[实用新型]一种氧化合成反应釜

权利要求书

1.一种氧化合成反应釜，包括釜体(1)、底柱(2)、进料管(3)和排料管(4)，底柱(2)固定设置于釜体(1)的底部，进料管(3)设置于釜体(1)的顶部，排料管(4)设置于釜体(1)的底部；其特征在于，还包括第一除雾网(5)、排气管(6)、处理箱(7)、水槽(8)、布气管(9)、布气头(10)、出气管(11)、排水管(12)、吸附箱(13)、吸附层(14)和排气口(15)，第一除雾网(5)固定设置于釜体(1)的内部顶端，排气管(6)设置于釜体(1)的顶部并位于第一除雾网(5)的正上方，处理箱(7)固定设置于釜体(1)的右部，水槽(8)设置于处理箱(7)的内部底端，排气管(6)的底部自处理箱(7)的顶部插入水槽(8)内，布气管(9)固定设置于排气管(6)的底部，布气头(10)设置于布气管(9)的中部，出气管(11)设置于处理箱(7)的顶部，排水管(12)设置于处理箱(7)的底部并与水槽(8)相通，吸附箱(13)固定设置于处理箱(7)的顶部，吸附层(14)固定设置于吸附箱(13)的内部中端，出气管(11)的右部自吸附箱(13)的左部插入吸附箱(13)内，排气口(15)设置于吸附箱(13)的右部，进料管(3)至少设置有两组。

2.如权利要求1所述的一种氧化合成反应釜，其特征在于，还包括控制盒(16)、温度传感器(17)和加热机构(18)，控制盒(16)固定设置于釜体(1)的左部，温度传感器(17)固定设置于釜体(1)的内部底端，加热机构(18)固定设置于釜体(1)的中部。

3.如权利要求2所述的一种氧化合成反应釜，其特征在于，还包括基座(19)、电机(20)、转轴(21)和搅拌杆(22)，基座(19)固定设置于釜体(1)的底部左侧，电机(20)固定设置于基座(19)的底部，转轴(21)设置于电机(20)的顶部并向上插入釜体(1)内，搅拌杆(22)固定设置于转轴(21)的上部。

4.如权利要求3所述的一种氧化合成反应釜，其特征在于，还包括顶盖(23)和密封垫(24)，顶盖(23)盖设于进料管(3)的顶部，密封垫(24)固定设置于顶盖(23)的顶部下端并与进料管(3)的顶部接触。

5.如权利要求4所述的一种氧化合成反应釜，其特征在于，还包括第二除雾网(25)，第二除雾网(25)固定设置于处理箱(7)的内部上端并位于水槽(8)的上方。

6.如权利要求5所述的一种氧化合成反应釜，其特征在于，还包括斜块(26)，斜块(26)固定设置于水槽(8)的底部。

7.如权利要求6所述的一种氧化合成反应釜，其特征在于，还包括防护网(27)，防护网(27)固定设置于排气口(15)内。

8.如权利要求7所述的一种氧化合成反应釜，其特征在于，还包括斜杆(28)，斜杆(28)固定设置于底柱(2)的中部，斜杆(28)的顶部与釜体(1)的底部固定连接。