[实用新型]自动上釉线的浸釉装置

权利要求书

1.一种自动上釉线的浸釉装置，其特征在于：包括旋转装置、壳体及装设于壳体内的自转组件、自旋转装置，所述旋转装置带动壳体整体旋转，所述自旋转装置带动自转组件自转；所述自转组件装设于壳体内并延伸于壳体外，所述自旋转装置装包括自旋转驱动、旋转轴及装设于旋转轴上的传动齿轮，所述自转组件上设置有从动齿轮，所述从动齿轮啮合于传动齿轮上；所述自旋转驱动通过旋转轴、传动齿轮带动自转组件旋转。

2.如权利要求1所述的自动上釉线的浸釉装置，其特征在于：还包括储釉箱，所述自转组件设置于储釉箱外侧，所述旋转装置带动自转组件旋转倾斜延伸于储釉箱内。

3.如权利要求1所述的自动上釉线的浸釉装置，其特征在于：还包括真空釉水箱及导釉管，所述自转组件的顶层部设有吸盘，自转组件的底端装设于真空釉水箱上，导釉管的底端穿设于真空釉水箱上，顶端延伸于所述吸盘内。

4.如权利要求3所述的自动上釉线的浸釉装置，其特征在于：所述自转组件还包括装设于吸盘底面上的自转轴，所述导釉管穿设于自转轴内，该导釉管与自转轴内表面之间形成连通吸盘及真空釉水箱的真空吸入腔。

5.如权利要求4所述的自动上釉线的浸釉装置，其特征在于：所述自转组件还包括将自转轴安装于真空釉水箱上的固定座，所述固定座上装设有轴承密封件。

6.如权利要求4所述的自动上釉线的浸釉装置，其特征在于：所述吸盘内设有一存釉仓，吸盘的顶面上设置有一内外贯穿存釉仓的吸口，所述自转轴的顶端延伸于存釉仓内；所述导釉管的顶端设置有一导釉头，该导釉头的顶端中部设置有连通导釉管的导釉孔。

7.如权利要求3所述的自动上釉线的浸釉装置，其特征在于：还包括真空泵及空釉转换器，所述吸盘组件还包括真空管及釉水回流管，所述真空泵连接于真空管及空釉转换器，所述空釉转换器连接于釉水回流管。

8.如权利要求7所述的自动上釉线的浸釉装置，其特征在于：所述空釉转换器包括真空腔体、釉水分散盘、下釉漏斗及真空釉水自动排水盖；所述真空腔体顶面上设置有接入口及真空吸入口，该接入口向下延伸设有一导管，所述釉水分散盘设于导管底部，该导管底部与釉水分散盘顶面之间设有过水孔。

9.如权利要求8所述的自动上釉线的浸釉装置，其特征在于：所述真空腔体的底部向下釉漏斗内延伸有一倾斜设置的导入管，所述真空釉水自动排水盖活动装设于导入管的上方表面上并盖合于导入管的开口端。

10.如权利要求4所述的自动上釉线的浸釉装置，其特征在于：所述空釉转换器还包括一真空进排自动盖，所述真空进排自动盖设置于真空腔体外侧。