[实用新型]自动上釉线的釉水擦拭装置

说明书

一种自动上釉线的釉水擦拭装置，其包括机架及装设于机架上的正转输送装置、反转输送装置，所述正转输送装置与反转输送装置呈并排设置，且二者的结构相同，旋转方向相反；所述正转输送装置包括驱动装置、传送带、主动辊、从动辊、第二导辊及水槽，所述主动辊及从动辊设于机架上，水槽设于机架下方，第二导辊设于水槽上；传送带套设于主动辊、从动辊、第二导辊的外表面上，该传送带的外表面设置有擦拭层；所述驱动装置连接于主动辊上。本实用新型的擦拭装置可对坯体底部进行自动擦拭，不仅降低了劳动强度，且擦拭均匀度一致，提高了加工质量。此外，该擦拭装置一次性可对多个坯体进行擦拭加工，大大提高了工作效率高，适用性强，具有较强的推广意义。

技术领域

本实用新型涉及陶瓷制造设备技术领域，尤其涉及一种自动上釉设备的釉水擦拭装置。

背景技术

在日用陶瓷中，陶瓷坯体成型后表面必须均匀涂上釉料层再进行烧制陶瓷表面才能光亮。在陶瓷烧制过程中，高温时釉料融化会与匣钵底部粘结在一起，因此，在上釉工序后必须将坯体底端与匣钵底部接触的釉去除干净，防止陶瓷产品烧制过程中与匣钵底部粘结。

在传统工艺中，去除釉料通常为采用人工擦拭，然而，该种方法不仅使工人劳动强度大、工作效率低，且由于人工操作用力均匀性差，存在擦拭不干净或者用力过度导致坯体破裂、坯体损坏的问题。

实用新型内容

为此，本实用新型的目的在于提供一种自动上釉线的釉水擦拭装置，以解决传统坯体釉料去除不干净、人工劳动强度大、工作效率低、易损坏坯体的问题。

一种自动上釉线的釉水擦拭装置，其包括机架及装设于机架上的正转输送装置、反转输送装置，所述正转输送装置与反转输送装置呈并排设置，且二者的结构相同，旋转方向相反；所述正转输送装置包括驱动装置、传送带、主动辊、从动辊、第二导辊及水槽，所述主动辊及从动辊水平装设于机架上，水槽设置于机架下方，第二导辊装设于水槽上；所述传送带套设于主动辊、从动辊、第二导辊的外表面上，该传送带的外表面设置有擦拭层；所述驱动装置连接于主动辊上，该驱动装置驱动主动辊带动传送带旋转，第二导辊底部传送带上的擦拭层与水槽内的水相接触。

进一步地，所述水槽内还设置有溢流管，所述溢流管的顶部开口低于水槽的顶面。

进一步地，还包括两第一导辊，两所述第一导辊分别设置于所述水槽的两侧。

进一步地，所述传送带的内表面中部设置有凸起部，传送带内侧的导辊外表面上均设置有导槽，所述凸起部卡合于导槽内。

进一步地，所述正转输送装置与反转输送装置上对应的辊安装于同一转轴上。

进一步地，还包括一机械手转移装置，所述机械手转移装置上设置有一排吸盘，所述吸盘的排列方向与主动轮、从动轮的排列方向一致。

进一步地，所述擦拭层为海绵层。

综上所述，本实用新型采用双向海绵输送带对坯体底部进行自动擦拭，不仅降低了劳动强度，且擦拭均匀度一致，提高了加工质量。此外，该擦拭装置一次性可对多个坯体进行擦拭加工，大大提高了工作效率高。本实用新型的适用性强，具有较强的推广意义。

附图说明

图1为本实用新型具有自动上釉线的釉水擦拭装置的结构示意图；

图2为图1中擦拭装置的分解示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。