[实用新型]一种单晶硅片生产用保存装置有效

专利信息
申请号: 202120719942.0 申请日: 2021-04-09
公开(公告)号: CN214411148U 公开(公告)日: 2021-10-15
发明(设计)人: 贺立超;周易芳;谢军;刘向荣 申请(专利权)人: 宇泽(江西)半导体有限公司
主分类号: H01L21/673 分类号: H01L21/673
代理公司: 江西九驰知识产权代理有限公司 36146 代理人: 胡美霞
地址: 336000 江西省*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 一种 单晶硅 生产 保存 装置
【权利要求书】:

1.一种单晶硅片生产用保存装置,包括存放座(1)和盖罩(2),所述盖罩(2)可盖合在存放座(1)上,其特征在于:所述存放座(1)内通过若干均布的下隔板(3)分隔成若干下存放槽(13),若干下存放槽(13)的底部设有隔板(6),所述盖罩(2)内通过若干均布的上隔板(4)分隔成若干盖槽(15),所述若干下存放槽(13)与若干盖槽(15)的位置一一对应设置,每个下存放槽(13)内安装有一个承载块(12),每个承载块(12)下方的隔板(6)上对应设置一个通槽(11),每个承载块(12)下方铰接有一根顶杆(10),每根所述顶杆(10)的下端与一根拨杆(9)的一端铰接,每根所述拨杆(9)的中间位置与存放座(1)的内侧壁铰接,每根所述拨杆(9)的另一端设有拨柄(8),所述拨柄(8)通过对应设置在存放座(1)上的拨槽(7)伸到存放座(1)的外部。

2.根据权利要求1所述的一种单晶硅片生产用保存装置,其特征在于:所述存放座(1)为矩形框结构,矩形框结构的存放座(1)上端面四个角上设有四个定位孔(14),所述盖罩(2)上设有与四个定位孔(14)对应的定位销。

3.根据权利要求2所述的一种单晶硅片生产用保存装置,其特征在于:所述若干下隔板(3)和若干上隔板(4)上均设有缺口(5),所述缺口(5)的中间位置设有为下凹的圆弧形结构。

4.根据权利要求3所述的一种单晶硅片生产用保存装置,其特征在于:所述承载块(12)的上表面设有缓冲层,所述缓冲层采用橡胶材料制成。

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