[实用新型]一种聚羧酸减水剂反应釜清洗装置

权利要求书

1.一种聚羧酸减水剂反应釜清洗装置，包括清洗箱体，所述清洗箱体内放置反应釜，所述清洗箱体用于放入清洗液清洗反应釜，其特征在于，包括：

动力机构，所述动力机构用于对反应釜的清洗提供动力；

支撑机构，所述支撑机构对称安装在清洗箱体内，所述支撑机构用于对反应釜支撑并缓震；以及

调节清洗机构，所述调节清洗机构用于对反应釜进行清洗。

2.根据权利要求1所述的聚羧酸减水剂反应釜清洗装置，其特征在于，所述清洗箱体内设置有凸起块，凸起块用于对反应釜可以进行的限位。

3.根据权利要求1所述的聚羧酸减水剂反应釜清洗装置，其特征在于，所述动力机构包括：

旋转电机，所述旋转电机用于对动力机构提供动力；

旋转轴，所述旋转轴设置在所述旋转电机的输出端，所述旋转轴用于带动动力机构；以及

齿轮组件，所述齿轮组件用于将动力机构的动力传输到清洗箱体以及调节清洗机构。

4.根据权利要求3所述的聚羧酸减水剂反应釜清洗装置，其特征在于，所述齿轮组件包括：

主动齿轮，所述主动齿轮安装在旋转轴远离旋转电机的一端；

传动齿轮，所述传动齿轮外设在清洗箱体的一侧，所述传动齿轮啮合主动齿轮；以及

从动齿轮，所述从动齿轮啮合传动齿轮远离主动齿轮的一侧，所述从动齿轮用于将动力提供调节清洗机构。

5.根据权利要求1所述的聚羧酸减水剂反应釜清洗装置，其特征在于，所述支撑机构包括：

第一支撑板，所述第一支撑板活动连接反应釜；

第二支撑板，所述第二支撑板固定连接清洗箱体，所述第二支撑板用于安装支撑机构；以及

缓冲组件，所述缓冲组件用于对第一支撑板进行缓冲。

6.根据权利要求5所述的聚羧酸减水剂反应釜清洗装置，其特征在于，所述缓冲组件包括：

固定块，所述固定块对称设置在第一支撑板下方；

转动销，所述转动销活动连接固定块远离第一支撑板的一侧，所述转动销活动连接压杆，所述转动销用于调节压杆的角度；以及

滑动组件，所述滑动组件用于调节用于对压杆进行缓冲。

7.根据权利要求6所述的聚羧酸减水剂反应釜清洗装置，其特征在于，所述滑动组件包括：

底座，所述底座安装在第二支撑板，所述底座用于安装滑动组件；

滑杆，所述滑杆设置在底座内；

滑块，所述滑块对称设置在滑杆上，所述滑块活动连接滑杆；以及

挤压弹簧，所述挤压弹簧的一端固定连接滑块，所述挤压弹簧的另一端固定连接底座内壁，所述挤压弹簧用于对第一支撑板的下移进行缓冲。

8.根据权利要求1所述的聚羧酸减水剂反应釜清洗装置，其特征在于，所述调节清洗机构包括:

第一螺纹柱，所述第一螺纹柱对称设置在清洗箱体内，所述第一螺纹柱的一端固定连接清洗箱体；

第二螺纹柱，所述第二螺纹柱的一端固定连接清洗箱体；

第一升降齿轮，所述第一升降齿轮螺纹连接第二螺纹柱，所述第一升降齿轮用于带动调节清洗机构上下移动；以及

清洗组件，所述清洗组件用于清洗反应釜

第二升降齿轮，所述第二升降齿轮螺纹连接第一螺纹柱，所述第二升降齿轮用于配合第一升降齿轮对调节清洗机构调节。

9.根据权利要求8所述的聚羧酸减水剂反应釜清洗装置，其特征在于，所述清洗组件包括：

清洗圆环，所述清洗圆环的一端连接第一升降齿轮，所述清洗圆环的一端连接第二升降齿轮；

第一清洗刷，所述第一清洗刷设置在清洗圆环内壁，所述第一清洗刷用于清洗清洗箱体内壁和外壁；以及

第二清洁刷，所述第二清洁刷设置在凸起块上，所述第二清洁刷用于清洗清洗箱体底部。