[实用新型]一种运动装置及工作平台

说明书

本实用新型公开了一种运动装置及工作平台，涉及集成电路制造技术领域。该运动装置包括座体、垂向运动机构和旋转运动机构，垂向运动机构设置于座体内，且能够沿座体的高度方向上下运动；旋转运动机构设置于垂向运动机构内，旋转运动机构能够相对垂向运动机构旋转，且能够在垂向运动机构的带动下沿座体的高度方向上下运动。本实用新型提供的运动装置，将垂向运动机构设置于座体内，并沿座体的高度方向上下运动，垂向运动机构的垂向行程可根据需求设置，满足了垂向运动的长行程需求。将旋转运动机构设置于垂向运动机构内，使得旋转运动机构不占用运动装置的垂向空间，满足运动装置的扁平化设计。

技术领域

本实用新型涉及集成电路制造技术领域，尤其涉及一种运动装置及工作平台。

背景技术

在集成电路的制造过程中，需要完成半导体硅片之间的键合，随着对产率要求的不断提高，硅片键合的速度要求也越来越高。

运动装置是完成硅片键合的核心部件。运动装置包括垂向运动机构和旋转运动机构，现有技术中的垂向运动机构的行程短，使得工作平台与硅片传输系统之间的传输距离受限。如果将垂向运动机构的行程加长，旋转运动机构固定于垂向运动机构上，又增加了运动装置的垂向尺寸，无法满足扁平化设计。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提出一种运动装置及工作平台，该运动装置既能满足垂向运动的长行程需求，又能满足扁平化设计。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种运动装置，其包括座体、垂向运动机构和旋转运动机构，所述垂向运动机构设置于所述座体内，且能够沿所述座体的高度方向上下运动；所述旋转运动机构设置于所述垂向运动机构内，所述旋转运动机构能够相对所述垂向运动机构旋转，且能够在所述垂向运动机构的带动下沿所述座体的高度方向上下运动。

可选地，所述垂向运动机构包括垂向支撑座和垂向驱动组件，所述垂向驱动组件包括第一电机动子和第一电机定子，所述第一电机定子与所述座体的内壁固定连接，所述第一电机动子与所述垂向支撑座的外壁固定连接，以驱动所述垂向支撑座相对所述座体上下运动。

可选地，所述垂向支撑座的外壁和所述座体的内壁二者中的一个沿所述垂向运动机构的运动方向设置有滑块，另一个设置有滑轨，所述滑块与所述滑轨配合。

可选地，所述垂向支撑座的外壁和所述座体的内壁之间设置有气浮导轨，用于为所述垂向支撑座的垂向运动提供导向。

可选地，所述运动装置还包括重力补偿机构，所述重力补偿机构设置于所述旋转运动机构的下方，用于对所述旋转运动机构进行重力补偿。

可选地，所述重力补偿机构包括磁浮重力补偿、气浮重力补偿或弹性重力补偿。

可选地，所述重力补偿机构设置有多个，多个所述重力补偿机构间隔均布于所述旋转运动机构的下方。

可选地，所述垂向支撑座包括第一容纳腔和第二容纳腔，所述第一容纳腔和所述第二容纳腔相互远离的一端均设置为开口，所述旋转运动机构设置于所述第一容纳腔内，所述旋转运动机构能够相对所述第一容纳腔旋转；所述重力补偿机构设置于所述第二容纳腔内，所述重力补偿机构一端与所述垂向支撑座固定连接，另一端与所述座体的底部固定连接。

可选地，所述运动装置还包括第一测量件和第二测量件，所述第一测量件用于测量所述旋转运动机构的旋转角度；所述第二测量件设置于所述座体的内壁，用于测量所述垂向运动机构的升降高度。

一种工作平台，其包括托盘和以上任一项所述的运动装置，所述托盘固定于所述旋转运动机构的上方，用于承载物料。

本实用新型的有益效果：