[实用新型]一种氢氧化钙研磨装置

说明书

本实用新型公开了一种氢氧化钙研磨装置，包括封闭的箱体(1)，箱体(1)的顶部设有方管(2)，方管(2)的上端设有进料斗(3)，方管(2)内设有倾斜的导板(4)，导板(4)的上方设有碾压机构，导板(4)的下端与箱体(1)之间形成排料口(5)，排料口(5)的下方设有两个并排的滚筒(6)，滚筒(6)上设有驱动机构，滚筒(6)的下方设有破碎机构，破碎机构的下方设有多个斜板(7)，斜板(7)的下端与箱体(1)之间形成落料口(8)，最上侧的斜板(7)的底部设有加热单元，最下侧的斜板(7)连接至箱体(1)的侧壁。本实用新型具有研磨效率较高和研磨效果较好的优点。

技术领域

本实用新型属于氢氧化钙加工设备领域，尤其涉及一种氢氧化钙研磨装置。

背景技术

块状的氢氧化钙经研磨机制备成粉末状，粉末状的氢氧化钙是一种重要的工业原料。现有研磨机的结构，包括机架，机架上设有两根并排的滚筒，机架上设有与滚筒连接的驱动机构，驱动机构使滚筒旋转，将块状的氢氧化钙放置在两根滚筒之间，利用滚筒碾压氢氧化钙，使其成为粉末状。

在实际使用过程中发现，为提高研磨效果，两根滚筒之间的距离非常近，几乎是贴合在一起，这就导致一些较大的块状氢氧化钙难以被带动进入到两根滚筒之间的研磨区域(即两根滚筒的相邻区域)内，这些块状氢氧化钙始终停留在滚筒上侧，难以被快速的研磨成粉，导致研磨机的研磨效率较低。此外，由于两根滚筒之间的距离较近，氢氧化钙经过两根滚筒时，会受到很大的研磨压力，少量氢氧化钙研磨后会变成片状，而非粉末状，尤其是受潮的块状氢氧化钙研磨后容易形成部分片状氢氧化钙，这就导致研磨效果较差。

因此，现有的研磨机存在研磨效率较低和研磨效果较差的缺陷。

实用新型内容

本实用新型的目的在于，提供一种氢氧化钙研磨装置。本实用新型具有研磨效率较高和研磨效果较好的优点。

本实用新型的技术方案：一种氢氧化钙研磨装置，包括封闭的箱体，箱体的顶部设有方管，方管的上端设有进料斗，方管内设有倾斜的导板，导板的上方设有碾压机构，导板的下端与箱体之间形成排料口，排料口的下方设有两个并排的滚筒，滚筒上设有驱动机构，滚筒的下方设有与箱体连接的破碎机构，破碎机构的下方设有多个从上到下排布的斜板，相邻斜板的倾斜方向相反，斜板的下端与箱体之间形成落料口，最上侧的斜板的底部设有加热单元，最下侧的斜板连接至箱体的侧壁，最下侧的落料口在于箱体的侧壁上。

前述的氢氧化钙研磨装置中，所述碾压机构包括位于导板上方的转板，转板的两端均设有与方管连接的第一转轴，所述方管的外侧设有与其中一根第一转轴连固定的转盘，转盘上设有第一连杆，第一连杆通过第二连杆连接第三连杆，方管上设有输出端与第三连杆固定的第一电机。

前述的氢氧化钙研磨装置中，所述驱动机构是与滚筒连接的第二电机。

前述的氢氧化钙研磨装置中，所述破碎机构包括两根并排的第二转轴，第二转轴与箱体转动连接，第二转轴上设有与箱体固定的第三电机，第二转轴上设有多根钢丝。

前述的氢氧化钙研磨装置中，所述加热单位是电加热板。

前述的氢氧化钙研磨装置中，所述箱体的顶部设有水汽排出口，水汽排出口内设有海绵板。

前述的氢氧化钙研磨装置中，所述滚筒的上侧设有与箱体固定的弹性板。