[实用新型]一种适应软土地基灰场库区沉降差的防渗结构有效

专利信息
申请号: 202120743845.5 申请日: 2021-04-13
公开(公告)号: CN214783807U 公开(公告)日: 2021-11-19
发明(设计)人: 汪彪;彭德刚;袁多亮;饶俊勇;何姜江;赵静伊;李绍仲;卢卓友 申请(专利权)人: 中国电力工程顾问集团西南电力设计院有限公司
主分类号: E02D3/10 分类号: E02D3/10;E02D3/00;E02D31/02;E02D31/00;E02D33/00
代理公司: 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 代理人: 卿诚
地址: 610056 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 适应 土地 基灰场 库区 沉降 防渗 结构
【权利要求书】:

1.一种适应软土地基灰场库区沉降差的防渗结构,其特征在于:包括设置于原土地基(1)上的底垫层(2),底垫层(2)上设置有防渗层(3),所述的防渗层(3)上设置有垂直于地基平面的褶皱结构(31);防渗层(3)上设置有保护层(4),所述的保护层(4)将防渗层(3)完全覆盖;保护层(4)上表面设置有堆灰层。

2.根据权利要求1所述的适应软土地基灰场库区沉降差的防渗结构,其特征在于:所述的底垫层(2)包括厚度为200~400mm的砂垫层。

3.根据权利要求1所述的适应软土地基灰场库区沉降差的防渗结构,其特征在于:所述的防渗层(3)包括防渗膜,防渗膜的厚度大于等于1.5mm。

4.根据权利要求1或3所述的适应软土地基灰场库区沉降差的防渗结构,其特征在于:所述的褶皱结构(31)的高度为100~200mm。

5.根据权利要求4所述的适应软土地基灰场库区沉降差的防渗结构,其特征在于:所述的褶皱结构(31)在底垫层(2)上呈井字形纵横交错设置,且褶皱结构(31)在不同的原土地基(1)区域其高度不同。

6.根据权利要求1所述的适应软土地基灰场库区沉降差的防渗结构,其特征在于:所述的保护层(4)包括厚度为300~400mm的粘土层,粘土层的厚度随褶皱结构(31)的高度增加而增加。

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