[实用新型]一种光栅结构及近眼显示系统有效

专利信息
申请号: 202120775689.0 申请日: 2021-04-15
公开(公告)号: CN214669691U 公开(公告)日: 2021-11-09
发明(设计)人: 宋强;郭晓明;马国斌 申请(专利权)人: 深圳珑璟光电技术有限公司
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18;G02B27/01
代理公司: 深圳市六加知识产权代理有限公司 44372 代理人: 许铨芬
地址: 518000 广东省深圳市深汕特别合作*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 光栅 结构 显示 系统
【权利要求书】:

1.一种光栅结构,其特征在于,包括:基底,以及,具有至少一个光栅周期的二维光栅,所述二维光栅设置在所述基底的一表面上,

所述二维光栅为像素化结构,每一所述光栅周期内,所述二维光栅包括水平方向上的至少一行二维矩形光栅,以及,垂直方向上的至少一列二维矩形光栅,所述二维光栅的行数与列数之和至少为三,至少两个所述二维矩形光栅的高度不同,其中,所述光栅结构的衍射级次的效率与所述二维矩形光栅的宽度、高度、镀膜相关。

2.根据权利要求1所述的光栅结构,其特征在于,

每两个相邻的所述二维矩形光栅贴合设置。

3.根据权利要求2所述的光栅结构,其特征在于,

所述水平方向上的二维矩形光栅的周期尺寸为200-1000nm,所述垂直方向上的二维矩形光栅的周期尺寸为200-1000nm。

4.根据权利要求3所述的光栅结构,其特征在于,

所述二维矩形光栅的尺寸为10-200nm。

5.根据权利要求4所述的光栅结构,其特征在于,

所述二维矩形光栅的高度为0-1000nm。

6.根据权利要求5所述的光栅结构,其特征在于,

所述二维光栅的表面设置有镀膜层。

7.根据权利要求1所述的光栅结构,其特征在于,

所述光栅结构包括在X方向和Y方向上具有相同周期性变化的二维光栅,各所述二维光栅结构相同。

8.根据权利要求1所述的光栅结构,其特征在于,

所述光栅结构包括在X方向和Y方向上具有在X方向或Y方向任一方向上具有相同周期性变化且结构相同的二维光栅。

9.一种近眼显示系统,其特征在于,包括:微投影光机,光波导,以及,如上述权利要求1-8任一项所述的光栅结构,所述光栅结构设于所述光波导的耦入区域和/或耦出区域。

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