[实用新型]一种光栅结构及近眼显示系统有效
申请号: | 202120775689.0 | 申请日: | 2021-04-15 |
公开(公告)号: | CN214669691U | 公开(公告)日: | 2021-11-09 |
发明(设计)人: | 宋强;郭晓明;马国斌 | 申请(专利权)人: | 深圳珑璟光电技术有限公司 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18;G02B27/01 |
代理公司: | 深圳市六加知识产权代理有限公司 44372 | 代理人: | 许铨芬 |
地址: | 518000 广东省深圳市深汕特别合作*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光栅 结构 显示 系统 | ||
1.一种光栅结构,其特征在于,包括:基底,以及,具有至少一个光栅周期的二维光栅,所述二维光栅设置在所述基底的一表面上,
所述二维光栅为像素化结构,每一所述光栅周期内,所述二维光栅包括水平方向上的至少一行二维矩形光栅,以及,垂直方向上的至少一列二维矩形光栅,所述二维光栅的行数与列数之和至少为三,至少两个所述二维矩形光栅的高度不同,其中,所述光栅结构的衍射级次的效率与所述二维矩形光栅的宽度、高度、镀膜相关。
2.根据权利要求1所述的光栅结构,其特征在于,
每两个相邻的所述二维矩形光栅贴合设置。
3.根据权利要求2所述的光栅结构,其特征在于,
所述水平方向上的二维矩形光栅的周期尺寸为200-1000nm,所述垂直方向上的二维矩形光栅的周期尺寸为200-1000nm。
4.根据权利要求3所述的光栅结构,其特征在于,
所述二维矩形光栅的尺寸为10-200nm。
5.根据权利要求4所述的光栅结构,其特征在于,
所述二维矩形光栅的高度为0-1000nm。
6.根据权利要求5所述的光栅结构,其特征在于,
所述二维光栅的表面设置有镀膜层。
7.根据权利要求1所述的光栅结构,其特征在于,
所述光栅结构包括在X方向和Y方向上具有相同周期性变化的二维光栅,各所述二维光栅结构相同。
8.根据权利要求1所述的光栅结构,其特征在于,
所述光栅结构包括在X方向和Y方向上具有在X方向或Y方向任一方向上具有相同周期性变化且结构相同的二维光栅。
9.一种近眼显示系统,其特征在于,包括:微投影光机,光波导,以及,如上述权利要求1-8任一项所述的光栅结构,所述光栅结构设于所述光波导的耦入区域和/或耦出区域。
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