[实用新型]一种受热均匀的非晶纳米晶材料生产用热处理装置

说明书

本实用新型公开了一种受热均匀的非晶纳米晶材料生产用热处理装置，涉及到热处理领域，包括热处理装置本体，所述热处理装置本体内设有四个放置架，四个放置架上均放置有托盘，所述热处理装置本体上固定安装有安装板，安装板的底侧固定安装有支撑板，支撑板的另一端固定安装在热处理装置本体上，所述安装板上固定安装有电机。本实用新型，通过凸轮和连接板的设置，在使用热处理装置本体加工非晶纳米晶材料时，可以通过凸轮带动连接板转动，使得放置架不停地往复移动，从而带动上下两层放置架错开移动，从而将各处非晶纳米晶材料都可以受到充分地加热，保证了热处理装置本体的加热效果和非晶纳米晶材料的品质。

技术领域

本实用新型涉及热处理技术领域，尤其涉及一种受热均匀的非晶纳米晶材料生产用热处理装置。

背景技术

非晶纳米晶，是对“非晶纳米晶原子抗菌技术”的简称，非晶纳米晶是对一种新型材料原子排列结构状态的描述，该状态的金属及合金的原子处于高能量的极限状态，其原子能够逸出表面，产生具有杀菌活性的高能量原子及原子团，而在非晶纳米晶材料的生产中需要对非晶纳米晶材料进行热处理。

现有技术中，在使用热处理装置对非晶纳米晶材料进行热处理时，会将非晶纳米晶材料放装置在托盘内然后一层一层的叠放在热处理装置内，但是多层叠放的托盘会在热处理装置内部加热时，影响到位于中间部分的非晶纳米晶材料的加热，导致内外两部分的非晶纳米晶材料受热不均匀，从而影响到非晶纳米晶材料的品质，因此需要一种受热均匀的非晶纳米晶材料生产用热处理装置来满足人们的需求。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种受热均匀的非晶纳米晶材料生产用热处理装置，以解决上述背景技术中提出的内外两部分的非晶纳米晶材料受热不均匀，从而影响到非晶纳米晶材料的品质的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种受热均匀的非晶纳米晶材料生产用热处理装置，包括热处理装置本体，所述热处理装置本体内设有四个放置架，四个放置架上均放置有托盘，所述热处理装置本体上固定安装有安装板，安装板的底侧固定安装有支撑板，支撑板的另一端固定安装在热处理装置本体上，所述安装板上固定安装有电机，电机的输出端通过联轴器固定安装有电机轴，电机轴上固定安装有凸轮，相对应的两个放置架上固定安装有同一个连接板，凸轮与两个连接板相接触。

优选的，所述放置架上固定安装有四个固定架，四个固定架内均转动安装有活动轮，热处理装置本体内固定安装有两个轨道，位于同一侧的两个活动轮转动安装在相对应的一个轨道上。

优选的，所述固定架上开设有安装槽，活动轮活动安装在安装槽内。

优选的，所述活动轮上开设有转动孔，两个转动孔内均转动安装有转动轴，转动轴的两端分别固定安装在安装槽的两侧内壁上。

优选的，所述轨道上开设有滑槽，两个活动轮均转动安装在滑槽内。

优选的，两个固定架相互远离的侧面上均固定安装有弹簧，两个弹簧的另一端均固定安装在热处理装置本体的内壁上。

优选的，所述热处理装置本体上开设有活动孔，电机轴贯穿活动孔。

本实用新型的有益效果是：

本实用新型中，通过凸轮和连接板的设置，在使用热处理装置本体加工非晶纳米晶材料时，可以通过凸轮带动连接板转动，使得放置架不停地往复移动，从而带动上下两层放置架错开移动，从而将各处非晶纳米晶材料都可以受到充分地加热，保证了热处理装置本体的加热效果和非晶纳米晶材料的品质。

本实用新型中，通过电机的设置，在电机运行时，电机可以通过电机轴带动凸轮转动，使得凸轮不停地的推动两个连接板移动，使得连接板带动放置架往复移动，实现自动运行，提高了热处理装置本体的便捷性，通过弹簧的设置，在放置架移动后弹簧会将放置架复位。从而实现放置架的往复移动，进一步提高了热处理装置本体的便捷性。

附图说明