[实用新型]一种真空连续投料装置有效
申请号: | 202120795564.4 | 申请日: | 2021-04-19 |
公开(公告)号: | CN214732893U | 公开(公告)日: | 2021-11-16 |
发明(设计)人: | 叶宏伦;蔡斯元;蔡期开;洪天河;钟其龙;刘崇志 | 申请(专利权)人: | 芯璨半导体科技(山东)有限公司 |
主分类号: | B65G65/48 | 分类号: | B65G65/48;B65D90/58 |
代理公司: | 泉州市文华专利代理有限公司 35205 | 代理人: | 陈雪莹 |
地址: | 250000 山东省济南*** | 国省代码: | 山东;37 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 真空 连续 投料 装置 | ||
1.一种真空连续投料装置,其特征在于:与晶锭生长装置连接,其包括料槽、料盖以及真空泵系统;所述料槽呈斗状,料槽的上端开口为进料口,料槽的下端开口为出料孔,所述出料孔依次连接出料阀、真空开关阀和晶锭生长装置的进料孔;所述料盖封堵进料口;所述真空泵系统通过管道连通料槽内部。
2.根据权利要求1所述的一种真空连续投料装置,其特征在于:所述出料阀的通径为A,所述真空开关阀的通径为B,则A<B,出料阀的流道中心轴线与真空开关阀的流道中心轴线重合。
3.根据权利要求1所述的一种真空连续投料装置,其特征在于:所述料槽的槽壁倾斜度为C,则C=45-60°。
4.根据权利要求1所述的一种真空连续投料装置,其特征在于:所述料盖和料槽通过法兰连接,设置在料槽的法兰盘上设有一圈凹槽,该凹槽内设有密封垫圈。
5.根据权利要求1所述的一种真空连续投料装置,其特征在于:所述料盖或料槽的侧壁上端设有一体成型并延伸至外部的气管,所述真空泵系统通过管道连通气管。
6.根据权利要求1所述的一种真空连续投料装置,其特征在于:所述真空开关阀为真空挡板阀。
7.根据权利要求1所述的一种真空连续投料装置,其特征在于:所述出料阀包括阀体、中心体和旋转轴,阀体内设有圆柱形的空腔,阀体上设有连通空腔且相对设置的进口和出口;所述中心体与空腔紧密配合并在内腔中转动,中心体上设有贯穿孔,旋转中心体可通过贯穿孔贯通阀体上进口和出口;所述旋转轴与中心体连接并延伸至阀体外部。
8.根据权利要求7所述的一种真空连续投料装置,其特征在于:所述旋转轴置于阀体外部的一端设有操作柄。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于芯璨半导体科技(山东)有限公司,未经芯璨半导体科技(山东)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202120795564.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种制氮机的均压装置
- 下一篇:一种升华气相物质分离装置
- 同类专利
- 专利分类