[实用新型]一种硅棒端面的擦拭装置及硅棒处理系统

权利要求书

1.一种硅棒端面的擦拭装置，其特征在于，包括支架、擦拭件、驱动件以及硅棒承载机构；

所述擦拭件具有平面状的擦拭面，所述擦拭件设在所述驱动件的动力输出端；

所述硅棒承载机构位于所述擦拭件具有擦拭面的一侧；

所述驱动件设在所述支架上；所述驱动件用于驱动所述擦拭件擦拭硅棒端面。

2.根据权利要求1所述的硅棒端面的擦拭装置，其特征在于，所述擦拭件为盘状结构、板状结构或条状结构。

3.根据权利要求1所述的硅棒端面的擦拭装置，其特征在于，所述擦拭件为旋转擦拭件或往复运动擦拭件。

4.根据权利要求1所述的硅棒端面的擦拭装置，其特征在于，所述硅棒端面的擦拭装置还包括柔性接触层，所述柔性接触层设在所述擦拭件的擦拭面上。

5.根据权利要求1所述的硅棒端面的擦拭装置，其特征在于，所述硅棒承载机构为硅棒运输机构或硅棒固定机构，和/或，所述驱动件选自电机、气缸或液压缸。

6.根据权利要求1～5任一项所述的硅棒端面的擦拭装置，其特征在于，所述硅棒端面的擦拭装置还包括第一移动机构，所述第一移动机构的固定端设在所述支架上，所述驱动件设在所述第一移动机构的移动端；所述第一移动机构用于支持所述驱动件沿着第一方向移动。

7.根据权利要求6所述的硅棒端面的擦拭装置，其特征在于，所述硅棒端面的擦拭装置还包括第二移动机构；

所述第一移动机构的固定端通过所述第二移动机构可移动设置在所述支架上，所述第二移动机构用于支持所述第一移动机构沿着第二方向移动；

或者，所述驱动件通过所述第二移动机构可移动设置在所述第一移动机构的移动端，所述第二移动机构用于支持所述驱动件沿着第二方向移动。

8.根据权利要求7所述的硅棒端面的擦拭装置，其特征在于，所述第一方向与所述第二方向具有夹角，所述夹角为90°。

9.根据权利要求6所述的硅棒端面的擦拭装置，其特征在于，所述硅棒端面的擦拭装置还包括移动控制开关，所述移动控制开关与所述第一移动机构电连接。

10.根据权利要求9所述的硅棒端面的擦拭装置，其特征在于，所述移动控制开关为压力开关，所述压力开关的压力感应触头设在所述擦拭件上，所述压力开关与所述第一移动机构电连接。

11.一种硅棒处理系统，其特征在于，包括至少一个权利要求1～10任一项所述的硅棒端面的擦拭装置。

12.根据权利要求11所述的硅棒处理系统，其特征在于，硅棒承载机构为硅棒运输机构，用于将所述硅棒运输至所述擦拭件具有擦拭面的一侧；所述硅棒处理系统还包括可控限位件；

所述擦拭件有两个，分别位于所述硅棒运输机构的运输方向的两侧；所述可控限位件设在所述硅棒运输机构上，所述可控限位件用于所述擦拭件擦拭硅棒端面时，限定硅棒运输机构上的硅棒的位置。

13.根据权利要求12所述的硅棒处理系统，其特征在于，所述可控限位件为可控挡块。