[实用新型]一种灌注控制系统及设备

权利要求书

1.一种灌注控制系统，其特征在于，应用于一个或多个储液池，每个所述储液池设置有对应的灌注管道，所述灌注控制系统包括：

上位机以及与所述上位机电性连接的至少一组灌注控制设备，其中，每组所述灌注控制设备包括：

针对每个所述储液池分别设置的液位探测器；

在每个所述储液池对应的灌注管道上分别设置的开关阀；

开关阀控制器，所述开关阀控制器与每个所述开关阀以及所述上位机电性连接。

2.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述储液池包括：

底滤池或蓄水池。

3.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述液位探测器设置于所述储液池的有效探测点。

4.如权利要求1或3所述的系统，其特征在于，所述液位探测器包括：

雷达液位计或激光液位计。

5.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述开关阀包括：

电动闸板阀、高温电磁阀、电动蝶阀以及电动调节阀中的任意一种。

6.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述开关阀控制器包括：

第一可编程逻辑控制器或第一现场可编程逻辑门阵列。

7.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述灌注控制设备还包括：

分流开关阀，所述分流开关阀与分流管道连接，所述分流管道与所述灌注管道的上游段连通，所述分流开关阀与所述开关阀控制器电性连接。

8.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述灌注控制设备还包括：

储液池选择器，所述储液池选择器与所述开关阀控制器以及所述上位机电性连接。

9.如权利要求8所述的系统，其特征在于，所述储液池选择器包括：

第二可编程逻辑控制器或第二现场可编程逻辑门阵列。

10.一种应用于高炉冲渣工艺的控制设备，包含如权利要求1～9任一项所述的灌注控制系统。