[实用新型]一种成像系统、镜头模组及电子设备有效

专利信息
申请号: 202120993954.2 申请日: 2021-05-11
公开(公告)号: CN214845999U 公开(公告)日: 2021-11-23
发明(设计)人: 华露;李明;杨健 申请(专利权)人: 江西晶超光学有限公司
主分类号: G02B13/00 分类号: G02B13/00;G02B13/18
代理公司: 北京恒博知识产权代理有限公司 11528 代理人: 范胜祥
地址: 330096 江西省南昌市*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 一种 成像 系统 镜头 模组 电子设备
【权利要求书】:

1.一种成像系统,其特征在于,所述成像系统沿光轴从物侧到像侧依次包括:

第一透镜,所述第一透镜具有正屈折力,所述第一透镜的物侧面于近所述光轴处为凸面,所述第一透镜的像侧面于近所述光轴处为凹面;

第二透镜,所述第二透镜具有屈折力;

第三透镜,所述第三透镜具有屈折力,所述第三透镜的物侧面于近所述光轴处为凹面,所述第三透镜的像侧面于近所述光轴处为凸面;

第四透镜,所述第四透镜具有屈折力;

第五透镜,所述第五透镜具有负屈折力,所述第五透镜的像侧面于近所述光轴处为凹面,所述第五透镜的物侧面与所述第五透镜的像侧面皆为非球面,所述第五透镜的物侧面与所述第五透镜的像侧面中至少一个面设置有至少一个反曲点;

其中,所述成像系统满足以下条件式:

-1.2f45/f23-0.7;

其中,f45为所述第四透镜和所述第五透镜的组合焦距,f23为所述第二透镜和所述第三透镜的组合焦距。

2.如权利要求1所述的一种成像系统,其特征在于,所述成像系统还满足以下条件式:

TTL/ImgH1.44;

其中,TTL为所述第一透镜的物侧面至所述成像系统的成像面于所述光轴上的距离,ImgH为所述成像系统的最大视场角所对应的像高。

3.如权利要求1所述的一种成像系统,其特征在于,所述成像系统还满足以下条件式:

0.6EFL/f10.9;

其中,EFL为所述成像系统的有效焦距,f1为所述第一透镜的有效焦距。

4.如权利要求1所述的一种成像系统,其特征在于,所述成像系统还满足以下条件式:

-1.5EFL/f5-0.5;

其中,EFL为所述成像系统的有效焦距,f5为所述第五透镜的有效焦距。

5.如权利要求1所述的一种成像系统,其特征在于,所述成像系统还满足以下条件式:

3.2(|Rs5|+|Rs6|)/(CT23+CT3+CT34)6.2;

其中,Rs5为所述第三透镜的物侧面的曲率半径,Rs6为所述第三透镜的像侧面的曲率半径,CT23为所述第二透镜的像侧面至所述第三透镜的物侧面于所述光轴上的距离,CT3为所述第三透镜于所述光轴上的距离,CT34为所述第三透镜的像侧面至所述第四透镜的物侧面于所述光轴上的距离。

6.如权利要求1所述的一种成像系统,其特征在于,所述成像系统还满足以下条件式:

2ET34/SD344;

其中,ET34为所述第三透镜的像侧面的最大有效半径处至所述第四透镜的物侧面的最大有效半径处沿平行于所述光轴方向的距离,SD34为所述第三透镜的像侧面的最大有效半径处与所述第四透镜的物侧面的最大有效半径处垂直于所述光轴方向的距离。

7.如权利要求1所述的一种成像系统,其特征在于,所述成像系统还满足以下条件式:

0.9CT12/CT11.35;

其中,CT12为所述第一透镜的像侧面至所述第二透镜的物侧面于所述光轴上的距离,CT1为所述第一透镜于所述光轴上的距离。

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