[实用新型]一种半导体生产制造用光刻机

说明书

本实用新型公开了一种半导体生产制造用光刻机，包括光刻机本体、水箱和盒体，所述光刻机本体一侧通过螺栓固定有水箱，所述水箱内部通过螺栓固定有过滤网，所述水箱顶部通过螺栓固定有盒体，所述盒体顶部设置有盒盖，所述盒盖底部通过安装架安装有放置板，所述放置板顶部开设有卡槽，所述水箱内顶部热熔连接有限位架，所述限位架内部套设有玻璃板，所述水箱顶部一端通过螺栓固定有抽水泵。本实用新型可以对刻印后的晶圆进行清洗，同时方便人员检测、观察晶圆上刻印的图案。

技术领域

本实用新型涉及光刻机技术领域，特别涉及一种半导体生产制造用光刻机。

背景技术

光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备，它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

光刻机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动。

但是现有的一种半导体生产制造用光刻机不足之处在于：1、整体结构简单，不具备清洗功能，不能清洗掉残留在晶圆表面的杂质，2、不方便人员进行检测、观察晶圆表面的刻印的图案。为此，我们提出一种半导体生产制造用光刻机。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种半导体生产制造用光刻机，可以有效解决背景技术中的问题。

为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：

一种半导体生产制造用光刻机，包括光刻机本体、水箱和盒体，所述光刻机本体一侧通过螺栓固定有水箱，所述水箱内部通过螺栓固定有过滤网，所述水箱顶部通过螺栓固定有盒体，所述盒体顶部设置有盒盖，所述盒盖底部通过安装架安装有放置板，所述放置板顶部开设有卡槽，所述水箱内顶部热熔连接有限位架，所述限位架内部套设有玻璃板，所述水箱顶部一端通过螺栓固定有抽水泵。

进一步地，所述盒体一侧热熔连接有一号观察筒，所述一号观察筒内部通过卡槽固定有一号放大镜，所述一号观察筒顶端套设有二号观察筒，所述二号观察筒内部通过卡槽固定有二号放大镜。

进一步地，所述盒体内部一端通过螺纹槽连接有喷头，所述盒体内部一端胶合有橡胶卡座，所述限位架内部胶合有橡胶圈。

进一步地，所述抽水泵的进水管通过卡箍固定有抽水管，所述抽水管位于水箱内部，所述抽水泵的出水管通过管道与喷头连接。

进一步地，所述水箱一侧通过转轴连接有箱门，所述水箱和盒体之间开设有二号预留孔，所述二号预留孔的数量为多个：打开箱门可以对过滤网过滤下的杂质进行清理。

进一步地，所述放置板底部开设有一号预留孔，所述一号预留孔的数量为多个；多个一号预留孔使卡槽内纯水可以流出。

与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：

1、通过设置抽水泵、放置板和过滤网，人员上拉盒盖带动放置板上，将刻印完成后的晶圆放在放置板上的卡槽内，再将盒盖盖在盒体上，使放置板移至盒体内部，打开抽水泵可以将抽水管将水箱内纯水抽出经喷头喷至晶圆上，对晶圆表面的杂质进行清洗，放置板上的多个一号预留孔和水箱和盒体之间的多个二号预留孔，使纯水可以重新流至水箱内，方便再次利用，过滤网可以对纯水中的杂质进行过滤。

2、通过设置一号观察筒、二号观察筒、一号放大镜和二号放大镜，人员透过二号观察筒内的二号放大镜和一号观察筒内的一号放大镜，可以观察到放置板上的晶圆，且二号观察筒套接在一号观察筒顶端，可以进行伸缩，方便人员清晰的观察晶圆上的图案，玻璃板可以阻挡清洗时的水渍喷溅至一号观察筒内，橡胶卡座可以提高玻璃板的结构稳定性，限位架内的多个橡胶圈可以防止水渍泄漏出去。

附图说明

图1为本实用新型一种半导体生产制造用光刻机的整体结构示意图。