[实用新型]一种镀膜真空室的清渣装置有效

专利信息
申请号: 202121010760.2 申请日: 2021-05-12
公开(公告)号: CN215031446U 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: 全军;范存贵;余光辉;崔平生;艾发智;黄颖;张少华 申请(专利权)人: 东莞南玻工程玻璃有限公司;中国南玻集团股份有限公司
主分类号: B08B1/02 分类号: B08B1/02;C23C14/35
代理公司: 深圳市精英专利事务所 44242 代理人: 李莹
地址: 523000*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 镀膜 真空 装置
【说明书】:

实用新型实施例公开了一种镀膜真空室的清渣装置,涉及真空镀膜室清洁技术领域。所述镀膜真空室的清渣装置包括主板,主板的端部设有压块。本实用新型实施例中,所述清渣装置放置在镀膜真空室的传输辊道上,在传输辊道的运输下进入镀膜真空室内;通过主板与传输辊道间的摩擦,清理传输辊道上的积渣;通过压块将镀膜真空室的底板上的积渣铲碎,让积渣通过传输辊道间的缝隙掉落,以达到清渣的目的,从而避免了玻璃表面划伤、走偏等产品质量缺陷及故障。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜室清洁技术领域,尤其涉及一种镀膜真空室的清渣装置。

背景技术

镀膜复合玻璃具有镀膜玻璃可满足建筑物良好的采光要求,又可有效地阻挡玻璃以辐射形式传递热量,具有很好的隔热性能的特点。磁控溅射镀膜技术是目前工业镀膜生产中最主要的技术之一,磁控溅射具有膜层厚度均匀性,基板温度低、沉降速度快等一系列优点。由于磁控溅射镀膜设备工作特点,在生产过程中镀膜腔室很容易在辊道底板形成积渣,很容易造成真空室传送的玻璃表面划伤、走偏等产品质量缺陷及故障,需要及时对真空室底板、辊道上的积渣做清理。

实用新型内容

本实用新型实施例所要解决的技术问题是:镀膜腔室很容易在辊道底板形成积渣,很容易造成真空室传送的玻璃表面划伤、走偏等产品质量缺陷及故障等问题。

为了解决上述问题,本实用新型实施例提出一种镀膜真空室的清渣装置,所述清渣装置包括主板,主板的端部设有压块;其中,所述清渣装置放置在镀膜真空室的传输辊道上,在传输辊道的运输下进入镀膜真空室内;通过主板与传输辊道间的摩擦,清理传输辊道上的积渣;通过压块将镀膜真空室的底板上的积渣铲碎,让积渣通过传输辊道间的缝隙掉落。

其进一步的技术方案为,还包括导向装置,导向装置设置在主板的侧面,用于引导主板贴着镀膜真空室的侧壁运动。

其进一步的技术方案为,导向装置包括多个设置在主板两侧面的导向轮。

其进一步的技术方案为,导向轮包括转轴以及设置在转轴上的轮子。

其进一步的技术方案为,主板的侧面设有安装槽,轮子的一部分嵌于安装槽内,轮子的另一部分外露于安装槽外;转轴的两端分别插入到安装槽的两侧壁内。

其进一步的技术方案为,压块通过紧固件与主板可拆卸连接。

其进一步的技术方案为,主板的端部设有安装孔,紧固件穿过所述安装孔将压块固定在主板上。

其进一步的技术方案为,安装孔的数量为多个。

其进一步的技术方案为,主板的表面开设有凹槽。

其进一步的技术方案为,凹槽的数量为多个,凹槽等间距排列。

与现有技术相比,本实用新型实施例所能达到的技术效果包括:

本实用新型实施例中,所述清渣装置放置在镀膜真空室的传输辊道上,在传输辊道的运输下进入镀膜真空室内;通过主板与传输辊道间的摩擦,清理传输辊道上的积渣;通过压块将镀膜真空室的底板上的积渣铲碎,让积渣通过传输辊道间的缝隙掉落,以达到清渣的目的,从而避免了玻璃表面划伤、走偏等产品质量缺陷及故障。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例提出的一种镀膜真空室的清渣装置的局部截面示意图;

图2为本实用新型实施例提出的一种镀膜真空室的清渣装置的俯视图;

图3为图2中A区域的放大图。

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