[实用新型]氧化镓研磨液自动分流装置

说明书

本申请涉及一种氧化镓研磨液自动分流装置，属于氧化镓加工设备的技术领域，其包括定位管，定位管的底端封闭，定位管的上方设有进流管，定位管的侧壁固定连接有若干分流管，分流管穿设定位管的侧壁并与定位管连通。本申请具有减小研磨液在多个工作站之间喷洒研磨液出现断层的现象，减小氧化镓晶片在研磨过程中出现划伤和碎裂的可能性，保证研磨的质量，从而节约资源的效果。

技术领域

本申请涉及氧化镓加工设备的领域，尤其是涉及一种氧化镓研磨液自动分流装置。

背景技术

氧化镓是一种新型的半导体，氧化镓晶片生产的过程中需要进行研磨，同时氧化镓晶片研磨过程中，需要配合喷洒研磨液，以此保证氧化镓晶片的研磨质量。

现在许多氧化镓晶片研磨过程中，通常会使用两个以上的工作站进行同步研磨，研磨过程中，通过一个研磨液喷洒管在多个工作站之间来回喷洒研磨液，依次提高氧化镓晶片的打磨效率。

然而当有多个工作站对氧化镓晶片进行研磨时，研磨液出液口在多个工作之间进行喷洒研磨液，容易使研磨液在不同的工作站进行喷洒的过程中出现断层，会导致氧化镓晶片在研磨过程中出现划伤甚至导致氧化镓晶片碎裂，浪费资源。

实用新型内容

为了减小研磨液在多个工作站之间喷洒研磨液出现断层的现象，减小氧化镓晶片在研磨过程中出现划伤和碎裂的可能性，保证研磨的质量，从而节约资源，本申请提供一种氧化镓研磨液自动分流装置。

本申请提供的一种氧化镓研磨液自动分流装置采用如下的技术方案：

一种氧化镓研磨液自动分流装置，包括定位管，所述定位管的底端封闭，所述定位管的上方设有进流管，所述定位管的侧壁固定连接有若干分流管，所述分流管穿设定位管的侧壁并与定位管连通。

通过采用上述技术方案，研磨液从进流管流入到定位管中，然后研磨液从定位管通过各个分流管分别流入到不同的工作站上，进而同时对氧化镓晶片进行喷洒研磨液，能够减小研磨液在多个工作站之间喷洒研磨液出现断层的现象，减小氧化镓晶片在研磨过程中出现划伤和碎裂的可能性，保证研磨的质量。

可选的，所述定位管内固定连接有分流板，所述分流板的中心位于进流管靠近定位管一端的正下方，所述分流板将定位管内壁均分为若干分流室，所述分流室与分流管一一对应。

通过采用上述技术方案，分流板能够将研磨液分散到不同的分流室中，然后通过不同的分流管流入到不同的工作站上，能够保证研磨液能够较为均匀的进行分配。

可选的，所述分流板设有斜面，所述斜面的顶端向靠近定位管的中心倾斜。。

通过采用上述技术方案，分流板能够将进流管流出的研磨液较为均匀的分散到各个分流室中，保证研磨液的喷洒较为均匀，进而保证氧化镓晶片的研磨质量。

可选的，所述定位管的下表面设有弧面，所述弧面向远离进流管的方向凹陷，所述分流管贯穿弧面，所述分流管靠近弧面的最低点。

通过采用上述技术方案，弧面能够使研磨液更加充分的流入到分流管中，减小研磨液积存到定位管中的可能性，节约资源。

可选的，所述分流管倾斜设置，所述分流管靠近定位管一端的高度大于另一端的高度。

通过采用上述技术方案，研磨液能够更加顺畅的同定位管流入到分流管中，方便研磨液的流动。

可选的，所述定位管远离进流管的外壁转动连接有转动板，所述转动板远离定位管的一侧位于进流管的下方且与进流管固定连接。

通过采用上述技术方案，转动板能够对进流管进行固定的同时，使用者可以转动定位管进而带动分流管转动，从而方便调节分流管对氧化镓晶片的喷洒角度，保证氧化镓晶片的研磨质量。