[实用新型]一种多层非互易性传输结构及采用其的分束器有效

专利信息
申请号: 202121047071.9 申请日: 2021-05-17
公开(公告)号: CN214623233U 公开(公告)日: 2021-11-05
发明(设计)人: 吕一航;余观夏 申请(专利权)人: 南京林业大学
主分类号: G02F1/09 分类号: G02F1/09
代理公司: 南京思拓知识产权代理事务所(普通合伙) 32288 代理人: 苗建
地址: 210037 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 多层 非互易性 传输 结构 采用 分束器
【权利要求书】:

1.一种多层非互易性传输结构,其特征在于它包括有七个层叠的介质,介质分为三组,向后的一组为CB’A三层介质层,中间一组为缺陷层,向前的一组为CBA三层介质层,其中C层为耗散材料,A层为增益材料,B层与B’层为磁光材料层。

2.根据权利要求1所述的一种多层非互易性传输结构,其特征在于,所述的C层为SiO2材料。

3.根据权利要求1所述的一种多层非互易性传输结构,其特征在于,所述的A层为SiO2材料。

4.根据权利要求1所述的一种多层非互易性传输结构,其特征在于,所述的B层和B’层的磁导率为1。

5.根据权利要求1所述一种多层非互易性传输结构,其特征在于,所述的B层的相对介电常数为张量形式,即:

6.根据权利要求1所述一种多层非互易性传输结构,其特征在于,所述的B层与B’层的外加磁场方向完全相反。

7.根据权利要求1所述的一种多层非互易性传输结构,其特征在于,所述的缺陷层为Mo材料。

8.根据权利要求1所述的一种多层非互易性传输结构,其特征在于,所述的A层厚度580nm,C层厚度580nm,B层厚度600nm,缺陷层厚度200nm。

9.一种分束器,其特征在于,它是包含如权利要求1-8中任意一项所述的多层非互易性传输结构的分束器。

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