[实用新型]拼接式载板框架结构、载具及化学气相沉积设备有效
申请号: | 202121103464.7 | 申请日: | 2021-05-21 |
公开(公告)号: | CN214991839U | 公开(公告)日: | 2021-12-03 |
发明(设计)人: | 左国军;梁建军;芦伟 | 申请(专利权)人: | 常州捷佳创精密机械有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/50 |
代理公司: | 北京友联知识产权代理事务所(普通合伙) 11343 | 代理人: | 尚志峰;汪海屏 |
地址: | 213133 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 拼接 式载板 框架结构 化学 沉积 设备 | ||
本实用新型提供了一种拼接式载板框架结构、载具及化学气相沉积设备,化学气相沉积设备包括传输装置,拼接式载板框架结构包括:平行并间隔设置的两个边框筋;多个横筋,相互间隔地连接在两边框筋之间且垂直于边框筋;至少一个竖筋,位于两个边框筋之间且平行于边框筋,任一竖筋的两端均连接在相邻两个横筋之间;多个横筋、至少一个竖筋、两个边框筋均由沿至少两个拼接件拼接形成。在该方案中,框架拼接形成的,这样一方面降低了框架的加工难度。另一方面,能够减小框架的整体变形,保证载具在滚轮上传输的稳定性,提高了自动化设备的定位精度。同时,减小框架的整体变形,还能降低因载具变形对硅片温度均匀性的影响,确保硅片加工的工艺效果。
技术领域
本实用新型涉及化学气相沉积领域,具体而言,涉及一种拼接式载板框架结构、载具及化学气相沉积设备。
背景技术
光伏PECVD设备滚轮传输形式中对载具的要求较高,需要能够保证在常温及高温状态下变形较小并且载具需要是导电体。传统的PECVD设备中载具尺寸相对较小,通过对强度进行控制可以很好的减小变形,随着行业的技术更新及市场需求的增加,对产能和工艺效果的需求也越来越高,载具的尺寸也越来越大,对载具的材料以及结构要求越来越严格。载具尺寸的增大导致无法再通过控制强度来减少变形,而载具变形越严重对硅片温度均匀性的影响就越大,进而导致硅片的温度不均匀极大地降低了工艺效果,载具的变形也影响了传输的稳定性,进而会影响自动化设备的定位精度,对设备的产能和稳定性有较大影响。
实用新型内容
本实用新型旨在至少解决现有技术或相关技术中存在的技术问题之一。
因此,本实用新型的一个目的在于提供了一种拼接式载板框架结构。
本实用新型的另一个目的在于提供了一种包括上述拼接式载板框架结构的载具。
本实用新型的又一个目的在于提供了一种包括上述载具的化学气相沉积设备。
为实现上述目的,本实用新型第一方面的实施例提供了一种拼接式载板框架结构,用于化学气相沉积设备,拼接式载板框架结构包括:
平行并间隔设置的两个边框筋;
多个横筋,相互间隔地连接在两个边框筋之间且垂直于边框筋;
至少一个竖筋,位于两个边框筋之间且平行于边框筋,且任一竖筋的两端均连接在相邻两个横筋之间;
其中,多个横筋、至少一个竖筋、两个边框筋均位于同一个平面上。
根据本实用新型的实施例提供的拼接式载板框架结构,用于化学气相沉积设备,具体而言,化学气相沉积设备包括传输装置和安装在传输装置上的载具,而载具又包括承载工件的载板和安装载板的载板框架。传输装置用于将载具连同硅片等待加工件一起进行前后传输,以便能够将硅片等待加工件输送到不同的工艺腔内,以进行不同的工艺处理。而在本申请,将载具的框架设置成了拼接式结构,即载板框架不是整体式结构,而是由多个横筋、至少一个竖筋、两个边框筋拼接形成的。这样一方面降低了框架的加工难度。另一方面,能够减小框架的整体变形,保证载具在滚轮上传输的稳定性,提高了自动化设备的定位精度。同时,减小框架的整体变形,还能降低因载具变形对硅片温度均匀性的影响,确保了硅片加工的工艺效果。
另外,根据本实用新型上述实施例提供的拼接式载板框架结构还具有如下附加技术特征:
在上述技术方案中,边框筋、横筋和竖筋均由殷钢或铝或不锈钢制成。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的