[实用新型]硅基显示的来料电性检测系统有效

专利信息
申请号: 202121116315.4 申请日: 2021-05-24
公开(公告)号: CN215264287U 公开(公告)日: 2021-12-21
发明(设计)人: 朱平;刘胜芳;李雪原;刘晓佳;赵铮涛 申请(专利权)人: 安徽熙泰智能科技有限公司
主分类号: G02F1/13 分类号: G02F1/13
代理公司: 芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107 代理人: 朱圣荣
地址: 241000 安徽省芜湖市芜湖长江*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 显示 来料 检测 系统
【权利要求书】:

1.硅基显示的来料电性检测系统,待检测的基底层上存在像素电极,所述基底层的边缘设有外围电极,其特征在于:所述基底层具有像素电极的一面上方固定有AOI,所述AOI与基底层之间设有液晶模块。

2.根据权利要求1所述的硅基显示的来料电性检测系统,其特征在于:所述液晶模块自基底层向AOI一侧依次为导光板、偏光片、液晶层、偏光片、ITO薄膜。

3.根据权利要求2所述的硅基显示的来料电性检测系统,其特征在于:所述外围电机上固定有探针或探卡,所述探针或探卡通过导线连接电源。

4.根据权利要求1、2或3所述的硅基显示的来料电性检测系统,其特征在于:所述AOI包括固定在液晶模块上方的采集单元、连接采集单元的图像处理单元,以及连接图像处理单元的显示单元。

5.根据权利要求4所述的硅基显示的来料电性检测系统,其特征在于:所述的偏光片包括上偏光片和下偏光片,所述上偏光片与下偏光片角度成90°。

6.根据权利要求5所述的硅基显示的来料电性检测系统,其特征在于:所述的AOI相机为面阵或TDI相机,检出精度小于等于1um;

所述的AOI相机为面阵或TDI相机,其光学像元为≤7um,其下方物镜倍率大于等于7倍。

7.根据权利要求1或6所述的硅基显示的来料电性检测系统,其特征在于:所述的液晶层厚度为1um至5um之间。

8.根据权利要求7所述的硅基显示的来料电性检测系统,其特征在于:所述的导光板为反射底片与光学亚克力板材制成。

9.根据权利要求8所述的硅基显示的来料电性检测系统,其特征在于:所述的导光板的光学亚克力板材材料为PMMA,折射率为1.5,厚度为100um-500um。

10.根据权利要求9所述的硅基显示的来料电性检测系统,其特征在于:所述的反射底片材料为Ag/Al/Au/Cu中的一种或者其合金,反射率大于等于85%。

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