[实用新型]一种氦净化设备再生压力监测装置

权利要求书

1.氦净化设备再生压力监测装置，包括氦净化系统回路中的氧化铜床、分子筛床、低温吸附器，其特征为：在所述氧化铜床、分子筛床、低温吸附器的真空计处各增加一个压力监测装置，并与真空计共用取源点和仪表根阀；所述压力监测装置通过数据总线与监控中心连接。

2.根据权利要求1所述的氦净化设备再生压力监测装置，其特征为：所述压力监测装置为压力变送器。

3.根据权利要求1所述的氦净化设备再生压力监测装置，其特征为：所述氦净化系统包括两列正常净化列，两列所述正常净化列增加6个压力测点。

4.根据权利要求1所述的氦净化设备再生压力监测装置，其特征为：所述真空计和压力变送器通过三通管件与真空引压管连接实现不同工艺流程控制使用。

5.根据权利要求1所述的氦净化设备再生压力监测装置，其特征为：所述氧化铜床从氦净化系统回路中隔离出来，使氧化铜床和氦净化再生系统联通充气，在此期间，所述压力监测装置监测氧化铜床的压力和氦净化再生系统的压力相排平。

6.根据权利要求1所述的氦净化设备再生压力监测装置，其特征为：所述压力监测装置监测再生后氦净化系统的氧化铜床的排气压力，通过氧化铜床和氦净化再生系统相隔离分别进行抽真空、氧化铜床接入净化列充氦气。

7.根据权利要求1所述的氦净化设备再生压力监测装置，其特征为：所述分子筛床的再生过程需要所述压力监测装置监测隔离后分子筛床段的压力；同时应用所述压力监测装置对分子筛床再生阶段和再生之后的排气和充气过程进行监测。