[实用新型]一种表面毛化的随机仿生微织构脑深部刺激套管电极

说明书

本实用新型公开了一种表面毛化的随机仿生微织构脑深部刺激套管电极，其圆柱外表面具有仿生微织构，所述仿生微织构由一系列凹坑组成，所述凹坑的形状大小随机生成，所述凹坑的位于套管电极上的位置随机产生，所述凹坑为形状不规则的盲孔，凹坑之间随机的相互叠加，相互叠加的凹坑连通形成毛细管。本实用新型的有益效果：套管电极具有表面毛化的随机仿生微织构，不但不影响其原有的导向功能，还能储存脑脊液、减小套管电极与脑组织的有效摩擦面积，减小穿刺摩擦力，并且可减小穿刺过程中脑组织的变形程度；表面毛化形成的凹坑微结构随机相互重叠连通形成毛细管，利用毛细管作用更易于捕捉润滑剂，降低套管电极对脑组织的穿刺损伤。

技术领域

本实用新型属于脑深部刺激穿刺介入技术领域，具体涉及一种表面毛化的随机仿生微织构脑深部刺激套管电极。

背景技术

随着人口老龄化问题的加剧及人类生活、工作压力的增大，越来越多的患者呈现脑深部疾病，导致大脑深部某些神经核团功能失调，表现为一系列的行为、意志、认知、情感等精神活动障碍疾病，严重威害人类的身体和精神健康。

脑深部刺激术是治疗此类病症的有效方式。该手术实施过程中，套管电极将对脑组织进行较长路径的穿刺，以实现刺激电极的针尖对靶点的定位，穿刺路径的长度一般大于50mm。当套管电极刺破大脑皮质进入脑组织之后，套管电极圆柱表面与脑组织之间会因相对运动产生穿刺摩擦力。穿刺摩擦力会随穿刺深度的增大而增大，除使脑组织变形、移位外，还会对穿刺路径上的脑组织产生持续的剪切、拖拽和牵拉作用，使穿刺路径上的脑组织产生水肿、疤痕、神经胶质、细胞凋亡等损伤现象。此外，额叶大脑皮质是大脑中最重要的神经组织区域，在套管电极的进针及退针过程中，额叶大脑皮质始终与套管电极的圆柱表面存在摩擦。相对其它位置，额叶的摩擦损伤最大。

因此，降低套管电极圆柱表面与脑组织之间的摩擦力将有效减小套管电极对脑组织的穿刺损伤，进而能获得脑深部刺激术满意的治疗效果和较少的并发症。

申请人致力于套管电极的研究，之前提交了申请号为202010065753.6，名称为一种直线型交错阵列仿生微织构脑深部刺激套管电极的实用新型专利。该专利公布了一种表面具有仿生微织构的套管电极，微织构沟槽可以储存脑脊液，具有润滑的作用，一定程度的减少了套管电极圆柱表面与脑组织之间的摩擦力。由于微织构呈规律的交错阵列分布，微织构沟槽的细长棱边对脑组织有持续的切削作用，严重时会对脑组织造成损坏。

实用新型内容

针对现有技术中套管电极与脑组织之间摩擦力大，在穿刺过程中会对脑组织造成损伤的问题，提供了一种表面毛化的随机仿生微织构脑深部刺激套管电极。

一种表面毛化的随机仿生微织构脑深部刺激套管电极，其圆柱外表面具有仿生微织构，所述仿生微织构由一系列凹坑组成。

其中，所述凹坑的形状大小随机生成。

其中，所述凹坑的位于套管电极上的位置随机产生。

其中，所述凹坑的直径随机分布于10μm～20μm之间。

其中，所述凹坑的深度随机分布于10μm～20μm之间。

其中，所述仿生微织构分布于套管电极的外圆柱面上的前端位置，共60mm的长度范围内。

其中，所述凹坑为形状不规则的盲孔。

其中，凹坑之间随机的相互叠加，相互叠加的凹坑连通形成毛细管。

其中，所述凹坑在套管电极圆柱表面上呈正偏态分布。

本实用新型的有益效果：

1.套管电极具有表面毛化的随机仿生微织构，不但不影响其原有的导向功能，还能储存脑脊液、减小套管电极与脑组织的有效摩擦面积，减小穿刺摩擦力，并且可减小穿刺过程中脑组织的变形程度；