[实用新型]一种PVD靶座布气装置有效
| 申请号： | 202121273572.9 | 申请日： | 2021-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN215163082U | 公开（公告）日： | 2021-12-14 |
| 发明（设计）人： | 谢艺峰 | 申请（专利权）人： | 福建金石能源有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;H01L31/18 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 362000 福建省泉州市*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 pvd 靶座布气 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种PVD靶座布气装置，其特征在于：包含PVD溅射靶座、由两根旋转套管组成的 PVD溅射靶材、以及两个或多个PVD靶座布气罩套件相互叠层套嵌组成的双层或多层套嵌结构的布气罩；所述PVD靶座布气罩套件表面分布有布气孔位。
2.根据权利要求1所述PVD靶座布气装置，其特征在于：所述 PVD靶座布气罩套件的布气孔位由中间向四周、由稀疏到密集方式布置。
3.根据权利要求1所述PVD靶座布气装置，其特征在于：所述两个或多个 PVD靶座布气罩套件的布气孔错位布局。
4.根据权利要求1所述PVD靶座布气装置，其特征在于：所述 PVD溅射靶座由溅射电源、冷却进出水系统及反应气体接入组成。
5.根据权利要求1所述PVD靶座布气装置，其特征在于：所述 PVD溅射靶材由两根旋转套管组成，套管外围为溅射材料，套管内有磁棒及冷却水。
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