[实用新型]一种用于微透镜阵列制造的一体化装置

权利要求书

1.一种用于微透镜阵列制造的一体化装置，其特征在于，包括：用于光刻的激光直写腔、第一真空过渡舱门、用于光刻胶显影的显影转运腔、第二真空过渡舱门以及用于刻蚀加工的等离子体刻蚀腔，所述激光直写腔与所述显影转运腔通过所述第一真空过渡舱门转运样品并实现彼此隔离，所述显影转运腔与所述等离子体刻蚀腔通过第二真空过渡舱门转运样品并实现彼此隔离，其中，

所述激光直写腔，进一步包括空气过滤器、通风管、激光器组件和载物平台，所述激光器组件用于向待加工样品发射激光进行光刻胶曝光，所述载物平台用于放置所述待加工样品，通过改变所述载物平台与所述激光器组件的相互位置完成光刻胶的图形化曝光，

所述显影转运腔，进一步包括转动电机、机械臂、转运吸嘴、载物吸盘、显影液喷头和去离子水喷头，所述转动电机包括第一转动电机和第二转动电机，所述机械臂通过所述第一转动电机控制，所述转运吸嘴设置于所述机械臂上用于吸取所述样品以实现所述样品在前后两个腔体间的传递，所述显影液喷头用于对所述样品进行显影，所述去离子水喷头用于清洗所述样品，所述载物吸盘用于放置所述样品并通过所述第二转动电机的控制以在清洗过程中保持一定转速避免显影液残留，

所述等离子体刻蚀腔，进一步包括刻蚀气源、等离子发生组件和载物台，显影后的样品通过所述机械臂转运至此腔体内的所述载物台，所述刻蚀气源通过所述等离子体发生组件成为等离子体，轰击所述载物台上的样品以进行刻蚀。

2.根据权利要求1所述的用于微透镜阵列制造的一体化装置，其特征在于，所述载物平台具有第一真空吸孔，用于对光刻时放置于所述载物平台上的样品进行吸取固定。

3.根据权利要求1所述的用于微透镜阵列制造的一体化装置，其特征在于，所述载物台具有第二真空吸孔以对刻蚀样品进行吸取固定。

4.根据权利要求3所述的用于微透镜阵列制造的一体化装置，所述机械臂由第一机械臂以及第二机械臂构成，所述第一机械臂端部和所述第二机械臂的一个端部可转动连接，并由第三转动电机控制所述第二机械臂。