[实用新型]一种暗埋不良地质体深基坑支护装置有效
申请号: | 202121296263.3 | 申请日: | 2021-06-10 |
公开(公告)号: | CN215482986U | 公开(公告)日: | 2022-01-11 |
发明(设计)人: | 许少强;马荣;王兴华;郜强;成军胜;王东;仝宗义;郭芳;刘硕琦;陈鑫 | 申请(专利权)人: | 山西机械化建设集团有限公司 |
主分类号: | E02D17/04 | 分类号: | E02D17/04 |
代理公司: | 太原晋科知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 14110 | 代理人: | 任林芳 |
地址: | 030009 山西省*** | 国省代码: | 山西;14 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 不良 质体 基坑 支护 装置 | ||
本实用新型公开一种暗埋不良地质体深基坑支护装置,包括立柱、回填土挡板和限位板,立柱的侧面沿其长度方向从顶部向下开设有限位槽,限位板的端部设置有可从限位槽顶端插入的限位部,以使得相邻两个立柱之间可通过将一个限位板两端的限位部分别插入两个立柱上相对侧的限位槽内,固定两个立柱之间的间距,所述回填土挡板的端部固定在对应侧的立柱靠坡的一侧面上。本实用新型的暗埋不良地质体深基坑支护装置通过限位板将呈独立相邻两个支撑柱连接为一体并支撑回填土挡板,提高施工效率和稳定性。
技术领域
本发明涉及深基坑支护装置技术领域,特别涉及一种暗埋不良地质体深基坑支护装置。
背景技术
基坑支护,是为保证地下结构施工及基坑周边环境的安全,对基坑侧壁及周边环境采用的支挡、加固与保护措施。
现有基坑支护装置通常利用立柱和回填土挡板形成,在施工过程中,在打桩机的配合下,围绕基坑的坡面使得若干个立柱形成一圈,然后在相邻的两个立柱之间靠向坡面的一侧固定回填土挡板,在该施工方式中,利用打桩机将立柱插入土壤时,相邻两个立柱之间呈独立状态,两者之间的距离一般依靠人眼配合操作者的经验进行掌控,存在一定的误差,一旦尺寸过大会影响到回填土挡板与立柱之间的固定,通常容易导致一块回填土挡板难以直接固定在相邻两个立柱上,此时,需要额外再嫁接回填土挡板,以增加其长度,一旦尺寸过小,则回填土挡板又会直接将相邻两个立柱覆盖,导致在固定相邻的另一个回填土挡板时,该回填土挡板无法直接与立柱固定,同时,在将回填土挡板固定在立柱上时,依靠人力支撑和扶持,再利用钢钉固定的方式,效率较低,同时,也影响回填土挡板固定后的规整度,因此,针对该问题,本申请提供了一种暗埋不良地质体深基坑支护装置。
实用新型内容
本发明的目的是提供一种暗埋不良地质体深基坑支护装置,用于解决邻立柱之间距离各不相同,挡板不便于固定在立柱上,且立柱之间,牢固度不够,容易造成坍塌。
为了达到上述目的,本实用新型提供一种混凝土面层裂缝修补装置,包括:立柱、回填土挡板和限位板,立柱的侧面沿其长度方向从顶部向下开设有限位槽,限位板的端部设置有可从限位槽顶端插入的限位部,以使得相邻两个立柱之间可通过将一个限位板两端的限位部分别插入两个立柱上相对侧的限位槽内,固定两个立柱之间的间距,所述回填土挡板的端部固定在对应侧的立柱靠坡的一侧面上。
优选地,当立柱的底端插入土壤之后,所述限位槽位于地面之上,且与地面之间的间距不超过300mm。
优选地,所述限位槽的槽口尺寸小于其内腔尺寸,且限位板端部的形状与尺寸设置成与所述限位槽相适配。
优选地,所述限位板位于相邻两个立柱之间的部分设有转板,所述转板设置成其顶端向外翻转90°之后,能够对回填土挡板的底部支撑。
优选地,当所述转板向外翻转90°之后,其靠坡一端延伸至回填土挡板外侧。
优选地,所述限位板的两端通过第一紧固件与对应侧的立柱固定。
优选地,所述限位板顶部设有一对呈一端可转动的支撑板,当其中一个所述支撑板的转动端转动至与对应侧的立柱接触后,可通过第二紧固件将支撑板的该立柱固定。
优选地,一对所述支撑板位于限位板的同一侧面上或在限位板的厚度方向位于限位板的两侧。
优选地,所述支撑板在限位板的厚度方向位于限位槽内部。
本实用新型的暗埋不良地质体深基坑支护装置,先通过打桩机将一个立柱插入土壤后,对另一个立柱打桩时,将限位板两端的限位部分别插入该立柱的限位槽内,限位板下滑后,再对第二个立柱打桩,使其地面上的长度与第一个立柱把持一致,此时限位板滑动到限位槽的底部,使两个立柱通过限位板连接在一起,形成一个整体,使两个立柱之间的距离能与回填土挡板的尺寸匹配,使得回填土挡板的两端分别固定在位于其两端的立柱上,重复操作上述过程,围绕基坑的坡面使得若干个立柱和回填土挡板形成一圈,增加整体的规整度,和施工效率。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山西机械化建设集团有限公司,未经山西机械化建设集团有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202121296263.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。