[实用新型]过程流体温度变送器有效
申请号: | 202121302689.5 | 申请日: | 2021-06-10 |
公开(公告)号: | CN215865541U | 公开(公告)日: | 2022-02-18 |
发明(设计)人: | 杰森·H·路德;凯文·C·库兹曼 | 申请(专利权)人: | 罗斯蒙特公司 |
主分类号: | G01K7/16 | 分类号: | G01K7/16;G01K15/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 倪斌 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 过程 流体 温度 变送器 | ||
1.一种过程流体温度变送器,其特征在于,所述过程流体温度变送器包括:
用于耦接到RTD的多个端子;
激励源,可操作地耦接到所述多个端子并且被配置为向所述RTD施加激励信号;
测量设备,耦接到所述多个端子,所述测量设备被配置为测量所述RTD对所施加的激励信号的响应;以及
控制器,与所述激励源和所述测量设备耦接,所述控制器被配置为通过将所述激励信号施加给所述RTD并且在所述激励信号被施加给所述RTD时使所述测量设备测量所述RTD的响应来执行RTD电阻测量,所述控制器还被配置为通过使所述激励源改变所述激励信号并且使所述测量设备测量对所改变的激励信号的RTD响应来执行RTD诊断。
2.根据权利要求1所述的过程流体温度变送器,其特征在于,所述控制器被配置为基于在所改变的激励信号被施加给所述RTD时获得的测量来确定RTD退化。
3.根据权利要求2所述的过程流体温度变送器,其特征在于,所述控制器被配置为基于在没有激励电流流动时获得的多个连续电压测量值之间的差别来确定RTD退化。
4.根据权利要求3所述的过程流体温度变送器,其特征在于,所述控制器被配置为提供RTD退化的指示。
5.根据权利要求4所述的过程流体温度变送器,其特征在于,所述过程流体温度变送器还包括与所述控制器耦接的通信电路,其中所述通信电路被配置为提供过程流体温度输出和所述RTD退化的指示。
6.根据权利要求1所述的过程流体温度变送器,其特征在于,所述激励源是电流源并且其中所述测量设备是电压测量设备。
7.根据权利要求6所述的过程流体温度变送器,其特征在于,所述控制器被配置为基于所确定的RTD退化来改变电压测量参数。
8.根据权利要求7所述的过程流体温度变送器,其特征在于,所述电压测量参数是稳定时间。
9.根据权利要求7所述的过程流体温度变送器,其特征在于,所述控制器被配置为增加稳定时间以实现选定的测量精度。
10.根据权利要求9所述的过程流体温度变送器,其特征在于,所述选定的测量精度是1%。
11.根据权利要求9所述的过程流体温度变送器,其特征在于,所增加的稳定时间用于在第一温度范围内的温度测量,并且原始稳定时间用于在第二温度范围内的温度测量,所述第二温度范围低于所述第一温度范围。
12.根据权利要求9所述的过程流体温度变送器,其特征在于,使用所增加的稳定时间来获得随后的过程温度输出。
13.一种过程流体温度变送器,其特征在于,所述过程流体温度变送器包括:
RTD,具有温度敏感元件和至少一个电隔离结构,所述至少一个电隔离结构靠近所述温度敏感元件设置,所述至少一个电隔离元件具有在所述RTD的热操作范围内的升高的温度下的能量存储特性;
激励源,可操作地耦接到所述RTD并且被配置为向所述RTD施加激励信号;
测量设备,耦接到所述RTD,所述测量设备被配置为测量所述RTD对所述激励信号的响应;以及
控制器,与所述激励源和所述测量设备耦接,所述控制器被配置为通过使所述激励源将所述激励信号施加给所述RTD并且在所述激励信号被施加给所述RTD时使所述测量设备测量所述RTD对所述激励信号的响应来执行RTD电阻测量,所述控制器还被配置为通过使所述激励源改变所述激励信号并且使所述测量设备测量所述RTD对所改变的激励信号的响应来执行RTD诊断。
14.根据权利要求13所述的过程流体温度变送器,其特征在于,所述温度敏感元件由设置在陶瓷体内的至少一个铂丝线圈形成。
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