[实用新型]一种高弓足足垫

权利要求书

1.一种高弓足足垫，包括足垫主体、设置于所述足垫主体上用于矫正伴有外翻的单纯性高弓足足部的矫正装置，其特征在于：所述矫正装置包括设置于所述足垫主体下端面内侧纵弓位置用于矫正伴有外翻的单纯性高弓足足部的数个矫正块。

2.根据权利要求1所述的一种高弓足足垫，其特征在于：数个所述矫正块从前至后依次设置，数个所述矫正块的厚度由前至后依次增大，相邻两个所述矫正块的间距由前至后依次增大。

3.根据权利要求1所述的一种高弓足足垫，其特征在于：所述足垫主体上端面位于横弓位置设置有在行走时提高所述足垫主体与伴有外翻的单纯性高弓足足部的横弓位置贴合的横弓支撑块。

4.根据权利要求3所述的一种高弓足足垫，其特征在于：所述横弓支撑块为向上突起的横弓支撑块。

5.根据权利要求1所述的一种高弓足足垫，其特征在于：所述足垫主体下端面位于大拇指位置开设有用于在行走时提高大拇指发力效果的发力槽。

6.根据权利要求5所述的一种高弓足足垫，其特征在于：所述发力槽的深度由前至后依次增大。

7.根据权利要求1所述的一种高弓足足垫，其特征在于：所述足垫主体下端面位于足跟位置设置有用于在行走时提高足跟省力效果的省力块。

8.根据权利要求1所述的一种高弓足足垫，其特征在于：所述足垫主体上端面为与伴有外翻的单纯性高弓足足部贴合的端面。

9.根据权利要求1所述的一种高弓足足垫，其特征在于：所述足垫主体包括足垫上层、设置于所述足垫上层下端面的足垫下层，所述足垫下层位于所述足垫上层前脚掌后方。

10.根据权利要求3所述的一种高弓足足垫，其特征在于：所述足垫主体下端面位于横弓位置设置有与所述横弓支撑块配合在行走时减缓所述横弓支撑块对伴有外翻的单纯性高弓足足部的横弓位置长时间支撑造成损伤的减伤槽。