[实用新型]一种转移薄晶圆的吸附装置有效
申请号: | 202121363533.8 | 申请日: | 2021-06-18 |
公开(公告)号: | CN215527694U | 公开(公告)日: | 2022-01-14 |
发明(设计)人: | 平登宏;刘奇;邹应豪;王量;陈丽翔 | 申请(专利权)人: | 威科赛乐微电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 黄宗波 |
地址: | 404000 重庆市*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 转移 薄晶圆 吸附 装置 | ||
1.一种转移薄晶圆的吸附装置,包括手柄和固定在手柄一端的吸盘,所述手柄内安装有真空发生器,其特征在于:所述吸盘上设有吸附组件,所述吸附组件包括开设于吸盘上的弧形槽和固定于吸盘上的弧形软环,所述弧形软环与弧形槽围成真空通道,所述真空通道与真空发生器连通,所述弧形软环背离吸盘的一侧开设有多个吸附孔。
2.根据权利要求1所述的一种转移薄晶圆的吸附装置,其特征在于:所述吸附组件的数量为两个,两个所述吸附组件呈同心圆结构设置,两个所述吸附组件能够吸附不同尺寸的晶圆,所述吸盘内安装有能够控制负压作用不同吸附组件的调节组件。
3.根据权利要求2所述的一种转移薄晶圆的吸附装置,其特征在于:所述吸盘内开设有容纳腔,所述容纳腔与真空发生器连通,所述吸盘内开设有将容纳腔与真空通道连通的通孔;所述调节组件包括转动安装于吸盘上的转轴,所述转轴位于两个通孔之间,所述转轴的一端延伸至容纳腔内并固定有能够封盖通孔的挡板,所述转轴的另一端延伸至吸盘外并固定有转动板。
4.根据权利要求3所述的一种转移薄晶圆的吸附装置,其特征在于:所述挡板上固定有卡板,所述吸盘内开设有供卡板插入的卡槽,所述卡槽位于通孔的正上方,所述转轴也滑动安装于吸盘内。
5.根据权利要求4所述的一种转移薄晶圆的吸附装置,其特征在于:所述转轴外套设有弹簧,所述弹簧位于容纳腔内,所述弹簧抵接在挡板和容纳腔的内壁之间。
6.根据权利要求5所述的一种转移薄晶圆的吸附装置,其特征在于:所述手柄上安装有控制真空发生器启闭的开关,所述开关和转动板均位于背离吸附组件的一侧。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造