[实用新型]一种交叉斜纹的阻流块结构有效

专利信息
申请号: 202121393237.2 申请日: 2021-06-23
公开(公告)号: CN217368996U 公开(公告)日: 2022-09-06
发明(设计)人: 胡文;代昊 申请(专利权)人: 宁德中能电子设备有限公司
主分类号: B05C5/02 分类号: B05C5/02;B05C11/10
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人: 黄诗锦;蔡学俊
地址: 352000 福建省宁德*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 交叉 斜纹 阻流块 结构
【说明书】:

实用新型涉及一种交叉斜纹的阻流块结构,包括长方体状的阻流块本体,所述阻流块本体的底面设有交叉分布的斜纹,所述斜纹包括多个依次分布的第一斜纹和多个依次分布的第二斜纹,多个第一斜纹和第二斜纹交叉分布,所述第一斜纹和第二斜纹为凹槽。通过将阻流块的底面设计成交叉分布的凹槽式斜纹结构,当出现台阶时,涂布时涂布液可沿着斜纹流动,即实现了涂布液的流向,这样就解决了涂布出现暗痕鼓筋的问题,克服了现有阻流块的底面采用平面结构造成的不足。

技术领域:

本实用新型涉及一种交叉斜纹的阻流块结构。

背景技术:

涂布作为锂电池前工序最重要的一道工艺,其品质直接决定了锂电池的安全性及其一致性。现有的涂布工艺中会采用阻流块来调节狭缝的厚度,然而,现有的阻流块底面往往是平面结构,在调节的过程中相互之间会出现台阶,台阶可能会导致出现暗痕鼓筋的现象。

实用新型内容:

本实用新型针对上述现有技术存在的问题做出改进,即本实用新型所要解决的技术问题是提供一种交叉斜纹的阻流块结构,设计合理,有效解决了涂布出现暗痕鼓筋的问题。

为了实现上述目的,本实用新型采用的技术方案是:一种交叉斜纹的阻流块结构,包括阻流块本体,所述阻流块本体的底面设有交叉分布的斜纹。

进一步的,所述斜纹包括多个依次分布的第一斜纹和多个依次分布的第二斜纹,多个第一斜纹和第二斜纹交叉分布,第一斜纹和第二斜纹的倾斜方向相反。

进一步的,所述第一斜纹和第二斜纹为凹槽。

进一步的,交叉分布的斜纹布满阻流块本体的底面。

进一步的,所述阻流块本体呈长方体状。

进一步的,所述阻流块本体的顶面中部固定连接有竖直设置在调整杆。

与现有技术相比,本实用新型具有以下效果:本实用新型结构设计简单、合理,通过在阻流块底面设置交叉斜纹,改变了涂布液的流向,有效解决了涂布出现暗痕鼓筋的问题。

附图说明:

图1是本实用新型实施例的立体构造示意图;

图2是本实用新型实施例的主视构造示意图;

图3是本实用新型实施例的仰视构造示意图。

具体实施方式:

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型做进一步详细的说明。

在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“ 纵向”、“ 横向”、“ 上”、“ 下”、“前”、“ 后”、“ 左”、“ 右”、“ 竖直”、“ 水平”、“ 顶”、“ 底”、“ 内”、“ 外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。

如图1~3所示,本实用新型一种交叉斜纹的阻流块结构,包括长方体状的阻流块本体1,所述阻流块本体1的底面设有交叉分布的斜纹,所述斜纹包括多个依次分布的第一斜纹2和多个依次分布的第二斜纹3,多个第一斜纹2和第二斜纹3交叉分布,所述第一斜纹2和第二斜纹3为凹槽。通过将阻流块的底面设计成交叉分布的凹槽式斜纹结构,当出现台阶时,涂布时涂布液可沿着斜纹流动,即实现了涂布液的流向,这样就解决了涂布出现暗痕鼓筋的问题,克服了现有阻流块的底面采用平面结构造成的不足(在调节的过程中相互之间会出现台阶,台阶可能会导致出现暗痕鼓筋的现象)。

本实施例中,第一斜纹和第二斜纹的倾斜方向相反,例如:第一斜纹从左往下倾斜,而第二斜纹则从右往左倾斜。

本实施例中,交叉分布的斜纹布满阻流块本体的底面。

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