[实用新型]一种去光阻-NOMAL清洗台

说明书

本实用新型公开了一种去光阻‑NOMAL清洗台，包括浸泡容器，所述浸泡容器内壁设置有安装筒，所述安装筒内壁设置有筒状支撑网，所述安装筒一侧设置有把手，所述浸泡容器一侧设置有脱气组件，且所述脱气组件包括箱体、安装框、过滤板和第二转轴，所述浸泡容器一侧内壁开设有出水口，所述浸泡容器一侧内壁开设有入水口，所述浸泡容器顶端设置有密封组件；本实用新型提供的技术方案中，通过设置脱气组件，使用完之后的去光阻液通过抽水泵抽到箱体中进行去气泡，减少去光阻液中的气泡，避免气泡过多影响光阻的溶解，使光阻清洗装置更好的工作。

技术领域

本实用新型涉及光阻清洗装置技术领域，具体为一种去光阻-NOMAL清洗台。

背景技术

光阻，亦称为光阻剂，是一个用在许多工业制程上的光敏材料，像是光刻技术，可以在材料表面刻上一个图案的被覆层，光阻通常使用在紫外光波段或更小的波长(小于400纳米)，例如DNQ在300纳米到450纳米间有很强的吸收，光阻有两种，正向光阻和负向光阻。

现有技术存在以下缺陷或问题：

1、光阻清洗装置光阻去除过程中，会加入超声装置来加速光阻去除反应，会使去光阻液中产生大量的气泡，导致光阻溶解不完全，形成光阻残留，影响去光阻的效果；

2、光阻清洗时需要在去光阻液中浸泡30分钟～60分钟，才能进行下一步去除工序，耗时较长，效率低，浸泡过程中去光阻液蒸发，消耗较多的去胶成本。

实用新型内容

本实用新型的目的在于针对现有技术的不足之处，提供一种去光阻 -NOMAL清洗台，以解决背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种去光阻-NOMAL清洗台，包括浸泡容器，所述浸泡容器内壁设置有安装筒，所述安装筒内壁设置有筒状支撑网，所述安装筒一侧设置有把手，所述浸泡容器一侧设置有脱气组件，且所述脱气组件包括箱体、安装框、过滤板和第二转轴，所述浸泡容器一侧内壁开设有出水口，所述浸泡容器一侧内壁开设有入水口，所述浸泡容器顶端设置有密封组件。

可选的，所述箱体固定连接于所述浸泡容器一侧外壁，所述箱体一侧外壁固定连接有低速电机，所述第二转轴设置于所述低速电机一端，所述安装框固定连接于所述第二转轴外壁，所述过滤板固定连接于所述安装框内壁。

可选的，所述密封组件包括密封盖和密封板，所述密封盖设置于所述浸泡容器顶端，所述密封板设置于密封盖内壁。

可选的，所述浸泡容器内壁开设有圆槽，所述安装筒两侧分别固定连接有第一转轴，且一侧所述第一转轴贯穿浸泡容器。

可选的，所述入水口一侧设置有抽水泵，所述出水口一侧内壁设置有阀门，所述箱体一侧设置有排气阀。

可选的，所述密封板顶端设置有丝杆，且所述丝杆贯穿所述密封盖，所述丝杆顶端固定连接有旋钮。

可选的，所述浸泡容器和箱体一侧外壁分别设置有密封圈，且所述密封圈分别设置于所述第一转轴和第二转轴外壁。

与现有技术相比，本实用新型提供了一种去光阻-NOMAL清洗台，具备以下有益效果：

1、本实用新型使用完之后的去光阻液通过抽水泵抽到箱体中，低速电机带动第二转轴转动，从而带动安装框转动，去光阻液中的气泡通过过滤板过滤出，通过排气阀排出之后，出水口处阀门打开，去光阻液重新流入浸泡容器，减少去光阻液中的气泡，避免气泡过多影响光阻的溶解，使光阻清洗装置更好的工作；

2、本实用新型通过转动把手，带动安装筒旋转，放入筒状支撑网中的元件随着筒状支撑网转动在去光阻液中移动，缩短浸泡的时间，提高光阻清洗装置的工作效率。

附图说明