[实用新型]一种改性硅油加工用的反应釜内部清洗装置

权利要求书

1.一种改性硅油加工用的反应釜(1)内部清洗装置，包括:

反应釜(1)，反应釜(1)的上端一侧设有进料管(2)，反应釜(1)的下端一侧设有出料管(3)；

清洗机构，设置在反应釜(1)的内部上端，用以将反应釜(1)内部作清洗工序；

刮壁机构，设置在反应釜(1)的内部下端，用以将反应釜(1)的内壁污渍进行刮除工序；

其特征在于，所述清洗机构包括：

圆形隔板(4)，设置在反应釜(1)的内部上端，圆形隔板(4)与反应釜(1)的内部顶端设有预设距离，圆形隔板(4)上设有四个沿着圆形隔板(4)圆周方向分布的条形通口(5)，四个条形通口(5)呈十字形分布在圆形隔板(4)上；

滑动块(6)，其数量与条形通口(5)的数量相同且一一对应的位于每个条形通口(5)内，每个滑动块(6)均能够沿着条形通口(5)的长度方向反复平移，每个滑动块(6)上均设有水管(7)，每个水管(7)均呈竖直设置，每个水管(7)的下端均朝反应釜(1)的内壁倾斜设置，每个水管(7)的底部均设有喷头(8)；

刮壁机构包括两个能够沿着反应釜(1)圆周方向旋转的刮板(9)，每个刮板(9)均与反应釜(1)的内壁紧密贴合。

2.根据权利要求1所述的一种改性硅油加工用的反应釜(1)内部清洗装置，其特征在于，刮壁机构还包括：

转轴(10)，同轴设置在反应釜(1)的内部，其上端分别能够转动的穿过圆形隔板(4)和反应釜(1)的顶部向外延伸，每个刮板(9)分别通过连接杆与转轴(10)的径向面相连接；

第一驱动电机(11)，设置在反应釜(1)的顶部，第一驱动电机(11)的输出端与转轴(10)的顶端相连接。

3.根据权利要求2所述的一种改性硅油加工用的反应釜(1)内部清洗装置，其特征在于，每个刮板(9)靠近反应釜(1)内侧壁方向的一面均设有多个沿着刮板(9)长度方向等间距分布的弧形穿孔(12)，每个弧形穿孔(12)均呈倾斜分布在每个刮板(9)上。

4.根据权利要求3所述的一种改性硅油加工用的反应釜(1)内部清洗装置，其特征在于，清洗机构还包括：

轴承套(13)，同轴设置在转轴(10)的上端，位于圆形隔板(4)的上方；

转盘(14)，套设于转轴(10)套的外部；

延伸套(15)，同轴设置在转盘(14)的顶部；

从动齿(16)，同轴套设于延伸套(15)的外部；

主动齿(17)，水平位于从动齿(16)的一侧，主动齿(17)与从动齿(16)啮合设置；

第二驱动电机(18)，位于主动齿(17)的正上方，第二驱动电机(18)的输出端与主动齿(17)的中心处传动连接，第二驱动电机(18)通过固定支架安装在圆形隔板(4)的顶部；

连杆(19)，其数量与滑动块(6)的数量相同且一一对应，所有连杆(19)沿着转盘(14)的圆周方向等间距分布在转盘(14)的边缘处，每个连杆(19)的一端分别与转盘(14)铰接设置，每个连杆(19)远离转盘(14)的一端分别与每个对应的滑动块(6)铰接设置。

5.根据权利要求4所述的一种改性硅油加工用的反应釜(1)内部清洗装置，其特征在于，每个滑动块(6)的两侧均设有滑块(20)，每个条形通口(5)的两侧均设有供滑块(20)平移的滑槽(21)。

6.根据权利要求1所述的一种改性硅油加工用的反应釜(1)内部清洗装置，其特征在于，每个喷头(8)分别与对应的水管(7)之间均通过螺纹连接。