[实用新型]一种离面检测陀螺仪有效
申请号: | 202121400436.1 | 申请日: | 2021-06-23 |
公开(公告)号: | CN215338344U | 公开(公告)日: | 2021-12-28 |
发明(设计)人: | 丁希聪;凌方舟;蒋乐跃;储莉玲 | 申请(专利权)人: | 美新半导体(天津)有限公司 |
主分类号: | G01C19/5656 | 分类号: | G01C19/5656 |
代理公司: | 苏州简理知识产权代理有限公司 32371 | 代理人: | 庞聪雅 |
地址: | 300450 天津市自贸试验区(*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 检测 陀螺仪 | ||
1.一种离面检测陀螺仪,其特征在于,其包括:
左框架结构,其位于中心点A的左侧,其内定义有第一空间,所述左框架结构能够沿Y轴进行谐振运动;
右框架结构,其位于所述中心点A的右侧,其内定义有第二空间,所述右框架结构与所述左框架结构平行且间隔预定距离,其能够沿Y轴进行与所述左框架结构反向的谐振运动;
左移动质量块,其位于所述左框架结构的第一空间内,其通过第一倾斜挠性梁与所述左框架结构相连;
左敏感质量块,其位于所述左框架结构的第一空间内,其通过第一敏感挠性梁与所述左移动质量块相连;
右移动质量块,其位于所述右框架结构的第二空间内,其通过第二倾斜挠性梁与所述右框架结构相连;
右敏感质量块,其位于所述右框架结构的第二空间内,其通过第二敏感挠性梁与所述右移动质量块相连。
2.根据权利要求1所述的离面检测陀螺仪,其特征在于,其还包括:
耦合梁锚点,其位于所述左框架结构和右框架结构之间;
耦合梁,其与所述耦合梁锚点相连,且所述耦合梁连接于所述左框架结构和右框架结构之间,所述耦合梁设置的促使所述左框架结构和右框架结构沿Y轴反向运动,
其中,X轴和Y轴相互垂直并且定义了所述离面检测陀螺仪所在的平面,Z轴垂直于X轴和Y轴所定义的平面,X轴沿左右方向,Y轴沿上下方向,坐标原点为所述中心点A。
3.根据权利要求2所述的离面检测陀螺仪,其特征在于,
所述左框架结构和右框架结构均为一侧开口的半包围结构,且所述左框架结构和右框架结构的开口相对设置;
所述左框架结构和右框架结构均包括框架上部、框架下部和框架连接部,其中,所述框架连接部连接于所述框架上部和框架下部之间。
4.根据权利要求3所述的离面检测陀螺仪,其特征在于,
所述左移动质量块为两个,分别为第一移动质量块和第二移动质量块,其中,所述第一移动质量块位于所述左框架结构的第一空间内的左侧,其通过所述第一倾斜挠性梁与所述左框架结构相连;所述第二移动质量块位于所述左框架结构的第一空间内的右侧,其通过所述第一倾斜挠性梁与所述左框架结构相连;所述左敏感质量块通过所述第一敏感挠性梁连接于所述第一移动质量块和第二移动质量块之间;
所述右移动质量块为两个,分别为第三移动质量块和第四移动质量块,其中,所述第三移动质量块位于所述右框架结构的第二空间内的左侧,其通过所述第二倾斜挠性梁与所述右框架结构相连;所述第四移动质量块位于所述右框架结构的第二空间内的右侧,其通过所述第二倾斜挠性梁与所述右框架结构相连;所述右敏感质量块通过所述第二敏感挠性梁连接于所述第三移动质量块和第四移动质量块之间。
5.根据权利要求3所述的离面检测陀螺仪,其特征在于,
在所述左框架结构沿Y轴进行谐振运动,所述右框架结构沿Y轴进行与所述左框架结构反向的谐振运动时,所述左框架结构通过所述第一倾斜挠性梁、左移动质量块和第一敏感挠性梁带动所述左敏感质量块沿Y轴进行谐振运动;所述右框架结构通过所述第二倾斜挠性梁、右移动质量块和第二敏感挠性梁带动所述右敏感质量块沿Y轴进行与所述左敏感质量块反向的谐振运动。
6.根据权利要求5所述的离面检测陀螺仪,其特征在于,其还包括:
设置于所述左敏感质量块下方的第一敏感电极;
设置于所述右敏感质量块下方的第二敏感电极;
当感应到X轴角速度输入时,由于柯氏效应会产生柯氏力,带动左移动质量块和右移动质量块倾斜,带动所述左敏感质量块和所述右敏感质量块沿着Z轴方向发生反向运动,第一敏感电极检测与所述左敏感质量块的距离变化,第二敏感电极检测与所述右敏感质量块的距离变化,第一敏感电极和第二敏感电极的电容一个增大,一个减小,两者差分得到X轴角速度引起的电容变化,进而得到输入的X轴角速率大小。
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